[发明专利]光学用膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及可用作偏振片保护膜等的由嵌段共聚物氢化物形成的光学用膜，具体而言，涉及与以往相比表面缺陷少、平面状优异的光学用膜。

背景技术

已知，将芳香族乙烯基化合物聚合物的芳环氢化而得到的芳香族乙烯基化合物聚合物氢化物、以及将包含以源自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的聚合物嵌段和含有源自链状共轭二烯化合物的重复单元的聚合物嵌段的嵌段共聚物的芳环及源自二烯的双键氢化而得到的嵌段共聚物氢化物，可用于偏振膜、相位差膜等光学膜，将经挤出成型而得到的膜进行拉伸可赋予期望的相位差(专利文献3～6)。

另一方面，对于用于液晶显示装置这样的利用偏振光的装置的由热塑性树脂形成的膜，要求光学透明、在平面方向及厚度方向的面内的相位差变动小，不易产生由基于膜表面的凹凸的透镜效果引起的图像的失真现象，等等。

因此，对于光学用膜用途，高度要求膜厚度的均匀性，一直以来，从可获得厚度均匀性优异的膜的观点出发，光学用膜可通过溶液流延法制造。

近年来，溶液流延法被指出会由于溶剂而导致环境污染、生产性低，正在应用的是熔融挤出法。然而，熔融挤出法不仅所制成的膜的厚度容易变动，而且还存在容易在膜挤出方向上产生分模线的缺点。

需要说明的是，分模线包括从模挤出的熔融树脂附着于模的壁面而成的其附着痕迹成为线状痕而显示的分模线、和在附着于模的模唇口而成的树脂痕迹处经过而成的分模线等。这些分模线的凹凸约为0.1～0.5μm左右，且其宽度由约50～500μm左右的峰和谷构成。

在光学用膜中，该分模线会成为光信号错误的原因或对显示器造成会映出分模线图案等的不良影响。因此，已尝试了在膜挤出成型时对熔融树脂的温度进行调整、对熔融粘度加以选定、向冷却辊与模的气隙、与冷却辊接触的熔融树脂膜施加电压等。另外，还进行了对模的唇部实施研磨处理、镀铬等镀敷处理。

然而，采用这些方法并不能充分防止分模线，在连续生产过程中分模线将逐渐增加，会产生生产方面或制品特性的稳定性等各种问题。

为此，已进行了各种研究。

例如，专利文献1中提出了一种透明树脂片，其由环状烯烃类热塑性树脂形成，在至少一面上形成有表面粗糙度为0.01μm以下的光滑面，且其厚度为0.05～3mm，残余相位差为20nm以下。另外，该文献中，作为制造该树脂片的方法，有如下记载：从安装于挤出机的T型模将熔融状态的环状烯烃类热塑性树脂利用金属制冷却用辊和金属制冷却用带夹压，由此使该环状烯烃类热塑性树脂压合于该冷却用辊或冷却用带，然后，于上述环状烯烃类热塑性树脂的玻璃化转变温度以下的温度将该环状烯烃类热塑性树脂从上述冷却辊或上述冷却用带剥离。

另外，专利文献2中提出了环状烯烃树脂制挤出成型物(片状或膜状)的制造方法，其包括：将环状烯烃树脂熔融，并使熔融状态的环状烯烃树脂通过具有剥离强度为75N以下的唇部的模后挤出，使环状烯烃树脂成型。另外，该文献中记载了：根据该方法，由于具有极为优异的表面光滑性，因此能够在光学用途中适宜地使用。

另外，专利文献3中公开了在包括下述工序的光学用膜的制造方法中，通过使用模唇的表面粗糙度Ra的平均值为0.05μm以下、且模唇整个宽度上的表面粗糙度Ra的分布范围为上述平均值±0.025μm以下的模，可以得到分模线的从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的高度在膜整个面上为100nm以下、且膜表面的分模线的倾斜度在膜整个面上为300nm/mm以下的光学用膜，所述工序是利用挤出机使具有脂环式结构的非晶性热塑性树脂熔融后从模挤出为片状，并使挤出的片状非晶性热塑性树脂与至少1个冷却鼓密合，进行成型并接取。

另一方面，专利文献4、6中公开了通过使用源自芳香族乙烯基化合物的聚合物嵌段和源自共轭二烯化合物的聚合物嵌段这两者被氢化的嵌段共聚物氢化物，可以得到光学补偿膜及相位差小的光学用膜。由于作为原料的芳香族乙烯基化合物及共轭二烯的获取容易，因此，与由环状烯烃合成的具有脂环式结构的热塑性树脂相比，容易实现更大规模的供给，能够期望使用该嵌段共聚物氢化物的光学用膜的实用化。

现有专利文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-219752号公报

专利文献2：日本特开2000-280315号公报

专利文献3：日本特开2005-128360号公报

专利文献4：日本特开2003-114329号公报

专利文献5：国际公开WO2009/067290号(US2010/290117A1)