[发明专利]用于低压系统的低渗漏密封件有效

专利信息
申请号: 201480037320.2 申请日: 2014-04-21
公开(公告)号: CN105378398B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: V.M.西什特拉 申请(专利权)人: 开利公司
主分类号: F25B41/00 分类号: F25B41/00;F16L17/06;F16L17/10;F16L19/02;F16L23/16;F16L23/18;F16J15/00;F16J15/46
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 谭佐晞,张昱
地址: 美国康*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 低压 系统 渗漏 密封件
【权利要求书】:

1.一种被配置用在冷冻机制冷系统中的密封件,其包括:

第一凸缘;以及

第二凸缘,所述第二凸缘与所述第一凸缘轴向对准并且直接接触,所述第二凸缘包括其内定位有第一密封机构和第二密封机构的至少一个沟槽,所述第一密封机构和所述第二密封机构隔开一定距离,使得在所述第一密封机构和所述第二密封机构之间形成被配置成接收加压气体的腔室。

2.根据权利要求1所述的密封件,其中所述加压气体的压力大于邻近所述第一凸缘和所述第二凸缘的周围空气的压力。

3.根据权利要求1所述的密封件,其中所述第一凸缘和所述第二凸缘利用至少一个紧固件彼此连接。

4.根据权利要求1所述的密封件,其还包括延伸穿过所述第二凸缘进入所述腔室中的管道,所述管道被配置成将所述腔室流体耦接到加压气体的供应装置。

5.根据权利要求4所述的密封件,其中所述加压气体的供应是所述冷冻机制冷系统的冷凝器的排放。

6.根据权利要求1所述的密封件,其中所述第一密封机构靠近所述第二凸缘的内径布置,并且所述第二密封机构靠近所述第二凸缘的外径布置。

7.根据权利要求1所述的密封件,其中所述第一密封机构和所述第二密封机构是O形环。

8.根据权利要求1所述的密封件,其中所述第二凸缘包括隔开一定距离的第一沟槽和第二沟槽。

9.根据权利要求8所述的密封件,其中所述第一沟槽靠近所述第二凸缘的内径布置,并且所述第二沟槽靠近所述第二凸缘的外径布置。

10.根据权利要求8所述的密封件,其中所述第一密封机构布置在所述第一沟槽内,并且所述第二密封机构布置在所述第二沟槽内。

11.根据权利要求10所述的密封件,其中所述第一密封机构和所述第二密封机构是O形环。

12.根据权利要求8所述的密封件,其中所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的所述第二凸缘的一部分具有减小的厚度以形成所述腔室。

13.根据权利要求1所述的密封件,其中所述第一凸缘与所述冷冻机制冷系统的第一部件一体形成,并且所述第二凸缘与所述冷冻机制冷系统的第二部件一体形成。

14.根据权利要求13所述的密封件,其中所述密封件布置在流体导管和所述冷冻机制冷系统的压缩机的入口之间。

15.根据权利要求13所述的密封件,其中所述密封件布置在流体导管和所述冷冻机制冷系统的冷却器的入口之间。

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