[发明专利]折射率测量方法、折射率测量装置及光学元件制造方法

权利要求书

1.一种用于通过以下方式测量被检体的折射率的方法：将来自光源的光分成被检光和参照光、将被检光引入到被检体中、以及测量源自参照光与穿过被检体的被检光之间的干涉的干涉光，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

通过将被检体布置在其群折射率在特定波长处等于被检体的群折射率的介质中，测量源自穿过被检体和介质的被检光与穿过介质的参照光之间的干涉的干涉光；

基于被检光与参照光之间的相位差的波长依赖性，确定所述特定波长；以及

计算与所述特定波长对应的介质的群折射率作为与所述特定波长对应的被检体的群折射率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，与被检光和参照光之间的相位差的极值对应的波长被确定为所述特定波长。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，通过测量介质的温度并将测量的介质的温度转换成介质的折射率，计算介质的群折射率。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，其折射率和形状已知的参照被检体被布置于介质中，光被引入到参照被检体中，参照被检体的透射波前被测量，并且，基于参照被检体的折射率和形状以及参照被检体的透射波前计算介质的群折射率。

5.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，来自光源的光被分成介质被检光和介质参照光，介质被检光被引入到介质中，源自介质参照光和穿过介质的介质被检光之间的干涉的干涉光被测量，并且，基于介质参照光和介质被检光之间的相位差计算介质的群折射率。

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的方法，还包括测量介质的折射率分布的步骤。

7.根据权利要求1～6中的任一项所述的方法，还包括控制介质的温度分布的步骤。

8.一种光学元件制造方法，所述方法包括以下步骤：

使光学元件成型；以及

通过使用根据权利要求1～7中的任一项所述的方法测量光学元件的折射率，评价成型的光学元件。

9.一种折射率测量装置，包括：

光源；

被配置为将来自光源的光分成被检光和参照光、将被检光引入到被检体中、并且使得参照光和穿过被检体的被检光相互干涉的干涉光学系统；

检测单元，被配置为检测源自被检光和参照光之间的干涉的干涉光；以及

计算单元，被配置为通过使用从检测单元输出的干涉信号，计算被检体的折射率，

其中，被检体被布置于其群折射率在特定波长处等于被检体的群折射率的介质中，

其中，所述干涉光学系统是使得穿过被检体和介质的被检光以及穿过介质的参照光相互干涉的光学系统，以及

其中，计算单元基于被检光和参照光之间的相位差的波长依赖性确定所述特定波长，并且将与所述特定波长对应的介质的群折射率计算为与所述特定波长对应的被检体的群折射率。

10.根据权利要求9所述的折射率测量装置，其中，所述计算单元确定与被检光和参照光之间的相位差的极值对应的波长为所述特定波长。

11.根据权利要求9或权利要求10所述的折射率测量装置，还包括被配置为测量介质的温度的温度测量单元，

其中，所述计算单元通过将由温度测量单元测量的介质的温度转换成介质的折射率来计算介质的群折射率。

12.根据权利要求9或权利要求10所述的折射率测量装置，还包括：

其折射率和形状已知的参照被检体；以及

波前测量单元，被配置为测量被引入到布置于介质中的参照被检体中的光的透射波前，

其中，所述计算单元基于参照被检体的折射率和形状以及参照被检体的透射波前来计算介质的群折射率。

13.根据权利要求9或权利要求10所述的折射率测量装置，还包括：

被配置为将来自光源的光分成介质被检光和介质参照光、将介质被检光引入到介质中、并且使得介质参照光和穿过介质的介质被检光相互干涉的干涉光学系统；

检测单元，被配置为检测源自介质参照光和介质被检光之间的干涉的干涉光；以及

计算单元，被配置为基于介质参照光和介质被检光之间的相位差来计算介质的群折射率。

14.根据权利要求9～13中的任一项所述的折射率测量装置，还包括：

波前测量单元，被配置为测量介质的折射率分布。

15.根据权利要求9～14中的任一项所述的折射率测量装置，还包括：

温度控制单元，被配置为控制介质的温度分布。