[发明专利]无碱玻璃

说明书

本发明涉及收缩率低、50℃～350℃下的平均热膨胀系数小、易于浮法成形的无碱玻璃。具体来说，本发明涉及一种无碱玻璃，所述无碱玻璃的收缩率C1为5ppm以下、收缩率C2为40ppm以下，以氧化物基准的质量％计，所述无碱玻璃含有SiO₂64～72、Al₂O₃17～22、MgO 1～8、CaO 4～15.5，且0.20≤MgO/(MgO+CaO)≤0.41。

技术领域

本发明涉及适合作为各种平板显示器(FPD)的制造中使用的显示器用基板玻璃或光掩模用基板玻璃的、实质上不含有碱金属氧化物的、收缩率低、且能够浮法成形的无碱玻璃。

背景技术

以往，对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面上形成金属或氧化物薄膜等的显示器用基板玻璃，要求例如如专利文献1所示的以下所示的特性。

(1)含有碱金属氧化物时，碱金属离子在薄膜中扩散而使膜特性劣化，因此，要求实质上不含有碱金属离子。

(2)对半导体形成中使用的各种化学品具有充分的化学耐久性。特别是对用于SiO_x或SiN_x的蚀刻的缓冲氢氟酸(BHF：氢氟酸与氟化铵的混合液)以及用于ITO的蚀刻的含有盐酸的药液、用于金属电极的蚀刻的各种酸(硝酸、硫酸等)、抗蚀剂剥离液的碱具有耐久性。

(3)内部和表面没有缺陷(气泡、条纹、夹杂物、凹坑、划痕等)。

除了上述要求以外，近年来还有以下的状况。

(4)要求显示器的轻量化，期望玻璃自身也是密度小的玻璃。

(5)要求显示器的轻量化，期望基板玻璃的薄板化。

(6)除了迄今为止的非晶硅(a-Si)型液晶显示器以外，还制作了热处理温度稍高的多晶硅(p-Si)型液晶显示器(a-Si：约350℃→p-Si：350～550℃)。

(7)为了加快制作液晶显示器时的热处理的升降温速度从而提高生产率或提高耐热冲击性，要求玻璃的平均热膨胀系数小的玻璃。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-348247号公报

发明内容

发明所要解决的问题

除了背景技术中所述的特性以外，近年来，在薄膜形成工序中暴露于高温时，为了将玻璃的变形及伴随玻璃的结构稳定化的尺寸变化抑制为最小限度，要求玻璃的收缩率低。

本发明的目的在于提供收缩率低、平均热膨胀系数小、且易于浮法成形的无碱玻璃。

用于解决问题的手段

本发明提供一种无碱玻璃，其中，所述无碱玻璃的收缩率C1为5ppm以下、收缩率C2为40ppm以下，以氧化物基准的质量％计，所述无碱玻璃含有：

SiO₂ 64～72、

Al₂O₃ 17～22、

MgO 1～8、

CaO 4～15.5，且

0.20≤MgO/(MgO+CaO)≤0.41。

本发明的无碱玻璃中，优选所述无碱玻璃的收缩率C1为5ppm以下、收缩率C2为25ppm以下，以氧化物基准的质量％计，所述无碱玻璃含有：

SiO₂ 67.5～72、