[发明专利]控制UV过滤层的光学性能的方法在审
| 申请号: | 201480034855.4 | 申请日: | 2014-05-28 |
| 公开(公告)号: | CN105339815A | 公开(公告)日: | 2016-02-17 |
| 发明(设计)人: | M·赫尔明;P·派卡克;K·波拉德 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 唐秀玲;林柏楠 |
| 地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 控制 uv 过滤 光学 性能 方法 | ||
1.控制含金属氧化物UV过滤层的UV吸收性能的方法,其中:
A)将包含有机金属化合物的层应用于基质上并在>230℃至500℃的温度下转化成包含金属氧化物或金属混合氧化物的层,和/或
B)将有机金属化合物应用于基质上并转化成金属氧化物或金属混合氧化物,且其中应用和转化连续地进行多次,同时形成包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的多层体系,且用于单独层的有机金属化合物以包含一定浓度的所述有机金属化合物的溶液或分散体应用,所述浓度随着多层体系中层的总数增加而降低,其中各个单独层中的浓度在单一多层体系中是相同的。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于有机金属化合物为金属肟盐、金属乙酰丙酮化物和/或金属乙酸盐。
3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于金属氧化物和/或金属混合氧化物包含至少锡或锌。
4.根据权利要求1-3中一项或多项的方法,其特征在于金属氧化物和/或金属混合氧化物为ITO、ZnO、IZO或IGZO。
5.根据权利要求1-4中一项或多项的方法,其特征在于包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的层或多层体系具有至多200nm的总层厚度。
6.根据权利要求1-5中一项或多项的方法,其特征在于多层体系由2-25个包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的单独层产生。
7.根据权利要求1-6中一项或多项的方法,其特征在于得到包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的层或多层体系,其透射至少95%的400nm至780nm波长范围内的入射光。
8.根据权利要求1-7中一项或多项的方法,其特征在于得到包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的层或多层体系,其吸收至多25%的315nm至400nm波长范围内的入射光。
9.根据权利要求1-8中一项或多项的方法,其特征在于得到包含金属氧化物和/或金属混合氧化物的层或多层体系,其吸收至多50%的315nm至400nm波长范围内的入射光。
10.通过根据权利要求1-9中一项或多项的方法生产的含金属氧化物UV过滤层。
11.根据权利要求10的含金属氧化物UV过滤层,其特征在于它们包含元素锡或锌的金属氧化物和/或金属混合氧化物。
12.根据权利要求10的含金属氧化物UV过滤层作为电子组件中的UV过滤层的用途。
13.根据权利要求12的用途,其特征在于电子组件为LED、OLED、晶体管或太阳能电池。
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