[发明专利]涂料组合物和通过其涂覆得到的涂膜有效
申请号: | 201480033423.1 | 申请日: | 2014-04-25 |
公开(公告)号: | CN105283519B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 辻田隆广;八木信司;西田信博;竹内义智 | 申请(专利权)人: | 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 |
主分类号: | B32B15/095 | 分类号: | B32B15/095;B05D7/14;C08J7/04;C09D201/00;C09D7/65 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 王丹丹;刘金辉 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 树脂珠粒 涂料组合物 涂膜 抗压试验机 涂覆 加压 变形 测量 涂膜附着力 预涂覆钢板 恢复率 交联剂 可弯性 树脂 抗压 压缩 | ||
本发明为提供用于在预涂覆钢板的下面提供尤其在其抗压痕性、涂膜附着力和可弯性方面显著的涂膜的涂料组合物;以及通过涂覆该涂料组合物得到的涂膜。本发明涉及包含涂膜形成树脂(A)、交联剂(B)和树脂珠粒(C)的涂料组合物,其中借助微型抗压试验机测量在各树脂珠粒10%加压变形时树脂珠粒(C)的压缩强度为0.1MPa至20MPa,此外,借助微型抗压试验机测量在各树脂珠粒90%加压变形以后树脂珠粒(C)的恢复率为至少80%。
[技术领域]
本发明涉及作为生产预涂覆钢板中的背面涂层(下面)涂料,特别是在其抗压痕性方面显著的涂料组合物。
[背景技术]
与其中涂覆在首先以目标制造产品的形式制造以后进行的后涂覆相反,预涂覆钢板为在其制造以前预先经受涂覆的金属板(切片或卷),并且它广泛用于建筑材料如屋顶和墙壁,以及用于音频设备、冰箱、隔离物等的外壳,因为与后涂覆相比,在成本、能量节约和材料节约方面存在优点。
预涂覆钢板的涂覆通常在其上面和下面上进行,其中上面为在制造以后形成产品的外面的区域,所以在其上施涂在涂膜外观、物理性能(硬度、附着力、耐刮擦性、可弯性等)、耐腐蚀性和耐气侯性等方面显著的涂料,并且为此采用的涂覆方法为使用底漆和顶涂层涂料的双涂双烘体系,或者使用底漆、中间涂层涂料和顶涂层涂料的三涂三烘体系。另一方面,由于下面在制造以后位于产品的内部,不需要与上面的情况下相同等级的涂膜外观和耐气侯性,从成本的观点看,其涂覆通常通过仅使用背面涂层涂料的一涂一烘体系进行,但在尤其需要耐腐蚀性的应用中,采用使用底漆和背面涂层涂料的双涂双烘体系。
尽管预涂覆钢的上面和下面理想地具有相同的外观(光泽度、色调),由于预涂覆钢的下面在制造以后形成加工产品的内部,它几乎永远不能看见,所以不需要高水平的设计,通常仅提供两类涂料作为背面涂层涂料,即高光泽度背面涂层涂料和低光泽度背面涂层涂料,使得在上面光泽度相当高的情况下,将高光泽度背面涂层涂料施涂于下面上,而在上面光泽度相当低的情况下,将低光泽度背面涂层涂料施涂于下面上,这样,所用涂料产品的数量降低且成本改善。
在这些中,低光泽度背面涂层涂料迄今为止通过引入具有光泽度降低效果的无机粉末如二氧化硅制备,但产生问题,例如由粘度提高导致的可涂覆性降低或者可弯性降低,以及由差抗压痕性导致的光泽转移等。此处,由差抗压痕性导致的光泽转移指这一现象:在上面具有与下面不同的光泽度的预涂覆钢板为卷形状并施加强压力,同时上面与下面接触的情况下,高光泽度面的光泽度降低,同时相反,低光泽度面的光泽度提高,且这作为光泽从高光泽度面向低光泽度面的表观转移被感知。该现象被认为是由于具有微小凸起和压痕的低光泽度面挤压相对光滑的高光泽度面,使得低光泽度面上的微小凸起和压痕咬入高光泽度面的表面中并降低其光滑性,同时低光泽度面上的细凸起和压痕挤压光滑的高光泽度面并由此变光滑而发生。当发生该现象时,预涂覆钢板表面光泽度改变,同时保存卷曲状态,并且在存在局部负载应用的区域中还尤其存在光泽度的明显变化,因此产生光泽转移变化,其中光泽转移均匀地显现,所以存在不能提供均匀的最终产品的问题。
在专利文件1中,公开了背面涂层涂料组合物,其包含选自聚酰胺树脂、聚丙烯腈树脂和丙烯酸系树脂的至少一类细树脂颗粒。
然而,其中存在的问题是取决于所用细树脂颗粒的类型,它在抗压痕性试验中失效,并且发生细粒本身的脱落。
在专利文件2中,描述了通过使用软氨基甲酸酯珠粒增强钢板的耐刮擦性的方法,但当预涂覆钢板经受高压时,珠粒本身变形,并且不能维持预期的性能。
在专利文件3中,描述了反应性氨基甲酸酯珠粒。这些珠粒的特性特征是它们在表面上具有反应性封端异氰酸酯,但实际上,在进行抗压痕性试验时没有显示良好的结果。为此的原因认为是尽管珠粒由于摩擦等导致的脱落实际上由于反应性氨基甲酸酯珠粒与基体树脂的化学结合而被抑制,当珠粒经受变形压力时,它们不会然后恢复其原始状态。
[现有技术文献]
[专利文献]
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