[发明专利]人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒

权利要求书

1.一种人造指甲的去除方法，其特征在于，包含以下工序：

将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上、或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；

将所述涂布膜进行曝光而形成人造指甲的工序；及

使所述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，

所述人造指甲组合物含有成分B即具有酸基的聚合物、成分D即光聚合引发剂、以及成分A即具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或成分C即不具有酸基的聚合性化合物，

成分B为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物或具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物，

所述去除液为pH8以上且11以下的水溶液，

[化学式1]

式(2)中，R²表示氢原子、甲基或-CH₂Y¹，Y¹表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R³或-NR³C(＝O)R⁴，X¹表示-O-或-NR³-，R³、R⁴表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L¹表示2价连接基团，

[化学式3]

式(3)中，L²、L³及L⁴分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR³，R³表示氢原子或1价基团。

2.根据权利要求1所述的人造指甲的去除方法，其中，所述人造指甲组合物含有成分A。

3.根据权利要求2所述的人造指甲的去除方法，其中，

成分A以下述式(1)表示，

[化学式2]

式(1)中，R¹表示氢原子或1价有机基团，X表示单键或2价连接基团，Z表示酸基。

4.根据权利要求3所述的人造指甲的去除方法，其中，

在所述式(1)中，Z为羧酸基。

5.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

成分B为含有前述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物。

6.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述去除液含有pH缓冲剂。

7.根据权利要求6所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述pH缓冲剂含有选自碳酸盐、碳酸氢盐、磷酸盐、硼酸盐及有机胺化合物中的至少1个。

8.根据权利要求6所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述pH缓冲剂含有碳酸盐和碳酸氢盐。

9.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述去除工序为在去除液中浸渍人造指甲来进行去除的工序。

10.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述去除工序为将去除液喷涂于人造指甲来进行去除的工序。

11.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

所述去除工序为利用含有去除液的棉包住人造指甲来进行去除的工序。

12.根据权利要求1或2所述的人造指甲的去除方法，其中，

将所述人造指甲组合物使用于基层。