[发明专利]电容式换能器及其制造方法以及对象信息获取装置

权利要求书

1.一种电容式换能器，包括：

单元，所述单元包括：

第一电极，和

振动膜，所述振动膜包括第二电极，所述第二电极被形成为通过腔体与第一电极相对；和

密封部分，所述密封部分用于密封蚀刻开口部分，所述蚀刻开口部分通过牺牲层蚀刻而形成以便形成所述腔体，其中，所述密封部分的周边处的间隙的高度小于所述腔体的高度。

2.根据权利要求1所述的电容式换能器，还包括蚀刻流动路径，所述蚀刻流动路径被形成为将所述腔体和所述密封部分的周边处的所述间隙相互连通，

其中，所述密封部分的周边处的所述间隙的宽度大于所述蚀刻流动路径的宽度。

3.根据权利要求1或2所述的电容式换能器，其中，所述密封部分的周边处的所述间隙在垂直于高度方向的平面中的截面形状包括旋转对称形状。

4.根据权利要求1至3中的任何一个所述的电容式换能器，其中，所述第二电极被布置在所述振动膜的内部。

5.根据权利要求1至3中的任何一个所述的电容式换能器，其中，所述第二电极被布置在所述振动膜的表面上。

6.一种制造电容式换能器的方法，所述电容式换能器包括单元和密封部分，所述单元包括第一电极和振动膜，所述振动膜包括第二电极，所述第二电极被形成为通过腔体与第一电极相对，

所述方法包括：

形成牺牲层，所述牺牲层用于形成所述腔体以及经由蚀刻流动路径连通到所述腔体的间隙；

在具有所述牺牲层的结构上形成膜，并且在所述膜中在所述牺牲层的将要变为所述间隙的区域上形成蚀刻开口部分；

通过经由所述蚀刻开口部分移除所述牺牲层来形成所述腔体；以及

在包括所述蚀刻开口部分的区域中形成所述密封部分以便密封所述蚀刻开口部分，

其中，形成牺牲层的步骤包括将所述牺牲层的在将要变为所述间隙的区域中的高度设置为小于所述牺牲层的在将要变为所述腔体的区域中的高度。

7.根据权利要求6所述的制造电容式换能器的方法，其中，形成牺牲层的步骤还包括将所述牺牲层的在将要变为所述间隙的区域中的宽度设置为大于所述牺牲层的在将要变为所述蚀刻流动路径的区域中的宽度。

8.根据权利要求6或7所述的制造电容式换能器的方法，其中，形成牺牲层的步骤还包括把在垂直于高度方向的平面中所述牺牲层的在将要变为所述间隙的区域中的截面形状形成为旋转对称形状。

9.一种对象信息获取装置，包括：

根据权利要求1至5中的任何一个所述的电容式换能器；和

处理器，所述处理器被构造为通过使用从所述电容式换能器输出的电信号来获取关于对象的信息，

其中，所述电容式换能器被构造为从所述对象接收声波并且输出所述电信号。

10.一种对象信息获取装置，包括：

根据权利要求1至5中的任何一个所述的电容式换能器；

光源；和

数据处理设备，

其中，所述电容式换能器被构造为接收通过用从所述光源振荡光照射对象而产生的声波，并且将接收的声波转换为电信号，并且

其中，所述数据处理设备被构造为通过使用所述电信号来获取关于所述对象的信息。