[发明专利]瓦砾处理用组合物及瓦砾处理方法有效
| 申请号： | 201480031112.1 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN105307788B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 山口雅人;菅野健一;三浦真一;市野佑介 | 申请（专利权）人： | 吉野石膏株式会社 |
| 主分类号： | B09B5/00 | 分类号： | B09B5/00;B09C1/00;C01F11/46;C02F11/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 瓦砾 处理 组合 方法 | ||
1.一种瓦砾处理用组合物，其特征在于，其为用于从附着有砂土的瓦砾中分离砂土的瓦砾处理用组合物，
相对于石膏100质量份至少包含0.1～10质量份的高分子凝聚剂，所述石膏的BSA比表面积为15000cm2/g以下，并且所述高分子凝聚剂的95％以上为粒径200μm以下的粉末状。
2.根据权利要求1所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述石膏的BSA比表面积为10000cm2/g以下。
3.根据权利要求1或2所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述高分子凝聚剂的95％以上为粒径150μm以下的粉末状。
4.根据权利要求1或2所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述高分子凝聚剂的90％以上为粒径10μm以上的粉末状。
5.根据权利要求1或2所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述高分子凝聚剂为阴离子系或非离子系的高分子凝聚剂。
6.根据权利要求1或2所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述高分子凝聚剂为任选具有分支的链状结构的合成高分子化合物。
7.根据权利要求1或2所述的瓦砾处理用组合物，其中，所述石膏为半水石膏或III型无水石膏，并且其95％以上为粒径700μm以下的石膏。
8.一种瓦砾处理方法，其特征在于，其为用于从附着有砂土的瓦砾中分离砂土的瓦砾处理方法，其具有：
处理工序，向所述附着有砂土的瓦砾中分别添加石膏和高分子凝聚剂、或者将石膏和高分子凝聚剂以预先混合的状态进行添加，将它们进行混炼；
分离工序，从由该处理工序得到的混炼物中分离瓦砾和附着于该瓦砾的砂土，
所述处理工序中，相对于1m3所述瓦砾，添加10～100kg石膏和0.01～10kg高分子凝聚剂，
所述石膏的BSA比表面积为15000cm2/g以下，并且所述高分子凝聚剂的95％以上为粒径200μm以下的粉末状。
9.根据权利要求8所述的瓦砾处理方法，其中，所述石膏的95％以上为粒径700μm以下的石膏。
10.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述石膏的BSA比表面积为10000cm2/g以下。
11.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述高分子凝聚剂的95％以上为粒径150μm以下的粉末状。
12.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述高分子凝聚剂的90％以上为粒径10μm以上的粉末状。
13.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述高分子凝聚剂为阴离子性或非离子性的高分子凝聚剂。
14.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述高分子凝聚剂为任选具有分支的链状结构的合成高分子化合物。
15.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，所述石膏为半水石膏或III型无水石膏。
16.根据权利要求8或9所述的瓦砾处理方法，其中，附着有砂土的瓦砾为附着了因海水而具有高胶着性的砂土的瓦砾。
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