[发明专利]包括内部挡环的密封盖在审
申请号: | 201480030252.7 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN105264242A | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | S·里泽罗;S·兰博恩 | 申请(专利权)人: | PRC-迪索托国际公司 |
主分类号: | F16B33/00 | 分类号: | F16B33/00;F16B37/14 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 赵培训 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 内部 密封 | ||
相关申请的交叉参考
本申请请求享有美国临时专利申请序列第61/814,634号的权益,该美国临时专利申请的申请日为2013年4月22日,其通过引用方式被并入文中。
技术领域
本发明涉及用于对机械紧固件进行密封的盖,该盖包含密封材料。
背景技术
密封材料通常被用来密封被使用在航空航天和其他工业中的紧固件。公知的是,用密封材料填充盖,然后将盖覆盖在紧固件上,以在密封材料固化时形成密封。
发明内容
本发明的一方面提供了一种密封盖组件,该密封盖组件包括:盖壳,其包括内部空间、底部开口和靠近所述底部开口的凹部;密封材料挡环,其至少被部分地插入盖壳上的凹部中;和,密封材料,其被径向地布置在密封材料挡环的外侧,靠近盖壳的底部开口。
本发明的另一方面提供了一种制造密封盖组件的方法。该方法包括以下步骤:将密封材料挡环至少部分地插入在位于盖壳的底部开口上的凹部中;和,将密封材料应用在盖壳的底部开口附近,使其径向地位于密封材料挡环的外侧。
本发明的另一方面提供了一种对已被安装在基底上的紧固件进行密封的方法。密封盖组件覆盖在紧固件上,在轴向方向上朝基底推压所述密封盖组件,从而引起挡环至少部分地回撤到密封盖组件的凹部中。密封材料抵靠着所述基底流动,但基本上阻止了密封材料在挡环内侧径向流动。
本发明的另一方面提供了一种密封紧固件,该密封紧固件已被安装在基底上。覆盖紧固件的密封盖组件与基底密封地接合。该密封盖组件包括盖壳,该盖壳具有内部空间和位于底部开口上的凹部。密封材料挡环至少被部分地插入盖壳上的凹部中,固化的密封材料被径向地设置在密封材料挡环外侧,在盖壳的底部开口和基底之间形成密封。
附图说明
图1是用于使用在根据本发明的一实施例的密封盖组件中的盖壳的侧视截面图。
图2是根据本发明的一实施例的密封盖组件的盖壳和密封材料挡环的侧视截面图。
图3是根据本发明的一实施例的密封盖组件10的侧视截面图。
图4是侧视截面图,根据本发明的一实施例示出了密封盖组件10覆盖在紧固件上的布置方式。
图5是侧视截面图,根据本发明的一实施例示出了密封操作期间密封盖组件10相对于紧固件的操作。
图6是根据本发明的一实施例的密封盖组件10的侧视截面图,该密封盖组件以密封配置被安装在紧固件周围。
具体实施方式
图1-3示出了根据本发明的一实施例的密封盖组件10的部件。该密封盖组件10包括盖壳12,该盖壳具有大致为圆柱形或锥形的侧壁13、顶部14和底部边缘15。凹陷的密封材料储槽16被设置在盖壳12的底部附近,在径向上位于底部边缘15内部。一环形凹部17被设置在侧壁13上,且位于盖壳12的底部附近。所述环形凹部17具有从底部边缘15开始测量的深度D。
如图2中最清楚所示,密封材料挡环20被部分地插入盖壳12的环形凹部17中。密封材料挡环20具有高度H。在一些实施例中,挡环20的高度H小于或等于盖壳12上的环形凹部17的深度D。密封材料挡环20的外径和环形凹部17的内径被形成合适尺寸以在密封材料挡环20和环形凹部17之间提供滑动或摩擦接触配合。如下面更充分所述,密封材料挡环20可相对于盖壳12轴向移动,从而可让密封材料挡环20回撤到环形凹部17中。
如图3中最清楚所示,将未固化的密封材料30应用到密封盖组件10中的方式是:绕密封材料挡环20的外径填充凹陷的密封材料储槽16。在图3中,盖壳12已经从图1和2所示的位置被倒置,凹陷的密封材料储槽16被填充有未固化的密封材料30。密封材料挡环20阻止密封材料30从所述密封材料储槽16朝内径向流动。在图3所示的实施例中,密封材料30被应用到密封盖组件10中达到一定高度,在该高度处,密封材料30与密封材料挡环20的边缘大致齐平。
图4-6根据本发明的一实施例示出了绕被安装在基底上的紧固件40安装密封盖组件10的过程。如图4所示,密封盖组件10被定位成覆盖紧固件40,密封材料挡环20的下边缘接触基底42。在图4所示的位置上,密封材料30可接触或靠过来接触基底42的上表面。在图4所示的位置上,密封材料挡环20从密封盖12的环形凹部17延伸一定距离,该距离大致为环形凹部17的深度D的50%。但是,在一些实施例中,所述延伸距离可以是所述环形凹部的深度D的10%至90%、或20%至80%、或30%至70%、或40%至60%。
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