[发明专利]制备制品的方法以及由该方法制备的制品有效
申请号: | 201480028682.5 | 申请日: | 2014-05-15 |
公开(公告)号: | CN105209244B | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 查德·马丁·安布;布兰登·斯瓦托夫斯基;威廉·K·韦德纳 | 申请(专利权)人: | 美国陶氏有机硅公司 |
主分类号: | B29D11/00 | 分类号: | B29D11/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 钱文宇 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 制品 方法 以及 | ||
一种制备制品的方法,所述方法包括将具有第一折射率R11的第一组合物施加在基底上以形成第一层(14)。所述方法还包括将固化条件施加到所述第一层的靶标部分(18),而不将所述固化条件施加到非靶标部分(16),以形成包括至少一个固化部分和至少一个未固化部分的对比层。此外,所述方法包括将具有第二折射率R12的第二组合物施加在所述对比层上以形成第二层,其中所述第二层的一部分与所述对比层的所述至少一个未固化部分混合以形成至少一个具有第三折射率R13的混合部分。R11、R12和R13彼此不相同。
本发明整体涉及制备制品的方法,并且更具体地讲,涉及制备具有不同折射率的制品的方法并且涉及由此制备的制品。
光学制品用于许多应用中。光学制品的类型包括波导和波导互连件,这两者均用于引导波,例如电磁波。此类波导和波导互连件在电子工业中越来越重要。
在制备常规波导的常规方法中,形成并固化底部包层。在所述底部包层上形成并且选择性地固化芯层,在所述芯层中留下未固化部分。在这些常规方法中,在所述芯层上形成顶部包覆层之前,必须通过蚀刻来移除所述芯层的未固化部分。更具体地讲,所述芯层的未固化部分必须被物理地移除,因为所述芯层具有高于底部包层和顶部包层的折射率,并且未能物理移除所述未固化部分通常导致波导内不期望的折射率分布。蚀刻可通过湿法使用溶剂(例如,有机溶剂或含水碱)来进行以溶解掉并物理移除所述未固化部分,或者通过干法(例如,使用等离子体或反应性离子)来进行以生成被物理移除的产物。然而,此类蚀刻步骤显著增加与波导的制造相关的成本和时间。
发明内容
本发明提供了制备制品的方法。该方法包括将具有第一折射率(RI1)的第一组合物施加在基底上以在所述基底上形成包含所述第一组合物的第一层。该方法还包括将固化条件施加到所述第一层的靶标部分,而不将所述固化条件施加到所述第一层的非靶标部分,以形成包括至少一个固化部分和至少一个未固化部分的对比层。此外,该方法包括将具有第二折射率(RI2)的第二组合物施加在所述对比层上以形成第二层。该方法还包括将所述第二层的至少一部分与所述对比层的所述至少一个未固化部分混合以形成至少一个具有第三折射率(RI3)的混合部分。所述第一组合物和所述第二组合物以及所述至少一个混合部分彼此不相同。RI1、RI2和RI3彼此不相同。
本发明的方法制备具有优异的光学和物理特性的制品,所述方法比制备常规制品所需的常规方法成本更低并且步骤更少。通过本发明的方法制备的本发明的制品适用于许多最终用途和应用。
附图说明
当结合附图考虑时,本发明的其他优点和方面可在以下具体实施方式中有所描述,其中:
图1为制品的一个实施例的示意性剖视图;并且
图2为制品的另一个实施例的另一个示意性剖视图。
具体实施方式
本发明提供了制备制品的方法。本发明的方法制备具有优异的光学和物理特性的制品。例如,该方法特别适于制备光学制品,诸如波导。然而,该方法并不限于此类光学制品并且可用于形成适用于许多不同应用的制品,而不管是否需要或使用折射率反差。
该方法包括将具有第一折射率(RI1)的第一组合物施加在基底上以在所述基底上形成包含所述第一组合物的第一层。所述第一组合物为可固化组合物并且可至少根据所需第一折射率和其他因素(例如,所需固化机理)来选择,如下所述。
可通过各种方法将所述第一组合物施加在所述基底上。例如,在某些实施例中,将所述第一组合物施加在所述基底上的所述步骤包括湿式涂布方法。适于该方法的湿式涂布方法的具体例子包括浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹面涂布、溅射、槽式涂布以及它们的组合。
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