[发明专利]具有凹槽矩阵的可重复使用的带在审

专利信息
申请号: 201480027845.8 申请日: 2014-03-14
公开(公告)号: CN105229138A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 汉斯·洛伊斯·米歇尔;达伦·林恩·库克 申请(专利权)人: 道格拉斯科学有限责任公司
主分类号: C12M1/34 分类号: C12M1/34;G01N15/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李江晖
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 凹槽 矩阵 重复使用
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求DarrenLynnCook等人于2013年3月15日提交的申请号为61/792,556、发明名称为“阵列带条的形成以及阵列带条的带”的美国临时申请的优先权。

技术领域

本发明涉及在较高通量系统上的内联样品处理,并且更具体地涉及具有凹槽矩阵的带条的形成以及具有凹槽矩阵的可重复使用的带。

背景技术

生物科学产业的发展已经产生了对较高通量生物样品处理和检测系统的需求。例如,Astle的6,632,653号美国专利公开了一种使用具有凹槽矩阵的带条进行生物测定的较高通量的方法。在较高通量系统中,液体处置和样品处理系统将源和试样从微板转移到具有凹槽矩阵的带条中、密封该带条并且在卷轴上累积该带条。然后,包含诸如生物样品等样品的带条被转移到水浴产品中,并且可以进行反应,例如使用热循环的聚合酶链反应(PCR)。随后,该带条可以被装载到检测仪器上,该检测仪器检测期望分析物的存在,例如在生物样品中的核酸存在。

在这种较高通量系统中采用的具有凹槽矩阵的带条通常被使用一次以处理和检测分析物在单一样品中的存在。在单次使用之后,该带条被丢弃。由于存在污染风险它没有被重复使用。此外,具有凹槽矩阵的带条通常通过热压纹处理形成。因此,由于带条和废物处理的成本,类似具有凹槽矩阵的带条的消耗材料增大了与较高通量系统相关的成本。随着朝增大反应速度以便以更快速度处理更多样品的努力,带条的成本会变得异常昂贵。

发明内容

一种用于处理和分析样品的系统,所述系统包括:具有凹槽的带,所述带行进通过所述系统;分配站,所述分配站将样品和试剂分配到所述带的所述凹槽中;以及检测站,所述检测站检测在所述带的所述凹槽中的分析物。所述系统还包括清洗和净化站,用于净化所述带的所述凹槽。

一种用于处理和分析系统中的样品的方法,所述方法包括:通过所述系统使带凹槽向前到达分配站;将样品和试剂分配到所述带的所述凹槽中;使所述带向前到达所述系统的检测站;以及检测在所述带的所述凹槽中的样品中的分析物。所述方法还包括:使所述带向前到达所述系统的清洗和净化站;以及净化所述带的所述凹槽。

附图说明

图1A是使用冲切技术形成在基板上的凹槽矩阵的俯视图;

图1B是具有使用冲切技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的沿图1A中的线1B-1B的截面图;

图2A是具有使用激光技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的俯视图;

图2B是具有使用激光技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的沿图2A中的线2B-2B的截面图;

图3A是具有使用厚膜沉积技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的俯视图;

图3B是具有使用厚膜沉积技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的沿图3A中的线3B-3B的截面图;

图3C是具有使用厚膜沉积技术形成在基板上的凹槽矩阵的带条的截面图;

图4A是具有形成在基板上矩阵凹槽的带条的俯视图;

图4B是具有使用附加技术形成在基板上矩阵凹槽的带条的沿图4A中的线4B-4B的截面图;

图4C是具有使用蚀刻去除技术形成在基板上矩阵凹槽的带条的截面图;

图5是采用具有凹槽矩阵的可重复使用的带的较高通量系统的示意图;

图6A是在带的底部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的仰视图;

图6B是在带的底部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的沿图6A中的线6B-6B的截面图;

图7A是在带的顶部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的俯视图;

图7B是在带的顶部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的沿图7A中的线7B-7B的截面图;

图8A是在带的顶部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的俯视图;

图8B是在带的顶部上具有凹槽矩阵的可重复使用的带的实施例的沿图8A中的线8B-8B的截面图;

图9是采用具有凹槽矩阵的可重复使用的带的较高通量系统的另一个实施例的示意图;

图10是采用具有凹槽矩阵的可重复使用的带的较高通量系统的另一个实施例的示意图;

图11是采用具有凹槽矩阵的可重复使用的带的较高通量系统的另一个实施例的示意图;

图12是采用具有凹槽矩阵的可重复使用的带的较高通量系统的另一个实施例的示意图;

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