[发明专利]用于利用激光辐射作用旋转对称的构件的外侧的装置有效
申请号: | 201480027335.0 | 申请日: | 2014-05-14 |
公开(公告)号: | CN105209215B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | T·米特拉 | 申请(专利权)人: | LIMO专利管理有限及两合公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;B23K26/064;G02B3/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 刘盈 |
地址: | 德国多*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 利用 激光 辐射 作用 旋转 对称 构件 外侧 装置 | ||
1.用于利用激光辐射(13)作用旋转对称的构件(11、11'、11”)的外侧的装置,包括多个透镜(10),激光辐射(13)能够穿过这些透镜并且这些透镜这样设计和/或设置,使得构件(11、11'、11”)的对称轴线(12、12'、12”)位于每个所述透镜(10)的焦点处,其中,在运行所述装置时,利用激光辐射使构件(11、11'、11”)的外周的整个角度空间被照射,对于数值孔径(NA)和透镜(10)的数量适用:NA=sin(α/2)
其中,α=360°/透镜数量。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述装置包括均匀化器件(14、18、21),所述均匀化器件能够将激光辐射(13)在穿过透镜(10)之前均匀化。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,均匀化器件(14、18、21)在透镜(10)的数量小于8时这样设计,使得激光辐射(13)具有强度朝向各边缘按照cos2(φ)下降的Top-Hat强度分布,并且均匀化器件(14、18、21)在透镜(10)的数量大于或者等于8时这样设计,使得激光辐射(13)具有线性的Top-Hat强度分布。
4.根据权利要求2或3所述的装置,其特征在于,均匀化器件(14、18)具有一个透镜阵列(15、16)或者一个光导体(19)。
5.根据权利要求2或3所述的装置,其特征在于,均匀化器件(14、18)具有两个透镜阵列(15、16)。
6.根据权利要求2或3所述的装置,其特征在于,均匀化器件(21)具有带有至少区段式为方形的光导区域(26)的波导(23)。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的在光导区域(26)的射入面和射出面之间延伸的第一延伸尺寸(D1)大于光导区域(26)的垂直于第一延伸尺寸(D1)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大至少3倍。
9.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大至少7倍。
10.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大至少10倍。
11.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大最高100倍。
12.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大最高50倍。
13.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,光导区域(26)的第一延伸尺寸(D1)比光导区域(26)的第二和/或第三延伸尺寸(D2、D3)大最高40倍。
14.根据权利要求1至3之一所述的装置,其特征在于,每个所述透镜(10)具有用于激光辐射(13)的背离构件(11、11'、11”)的射入面和朝向构件(11、11'、11”)的射出面。
15.根据权利要求1至3之一所述的装置,其特征在于,所述透镜(10)中的至少两个或者每个具有相同的焦距(f)。
16.根据权利要求1至3之一所述的装置,其特征在于,所述装置包括至少一个激光源,这些激光源能够产生用于对构件(11、11'、11”)作用的激光辐射(13)。
17.根据权利要求16所述的装置,其特征在于,所述激光源是多个激光源。
18.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述装置包括光学器件,所述光学器件能够利用激光辐射(13)作用所述透镜(10)中的至少一个或者每个。
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