[发明专利]用于流体的细菌减少的设备和其使用过程

权利要求书

1.一种用于流体（2）的细菌减少的设备（1），包括：

外壳（10），

入口（12），

出口（14），

流体接触表面（20），所述流体接触表面（20）包括实现为降低所述流体（2）的细菌计数的杀菌剂（22），

其特征在于：所述流体接触表面（20）是静态混合元件（30）的流体接触表面（20）；

其中，所述静态混合元件（30）：

1）在形状上是螺旋状或者伪螺旋状的，并且以交替的左、右手180度扭转的序列来设置；

2）包括交叉波纹板和通道；

3）形式为相对于管轴线成角度设置的交叉网，所述交叉网设置成至少两组，任何一组元件的网基本上相互平行地延伸，并且一组元件的网与其他组元件的网交叉，其中，最大网宽是从管径的0.1倍到0.167倍，每一组中的标准网间距离是从管径的0.2倍到0.4倍，混合器元件的长度是从管径的0.75倍到1.5倍；

4）形式为规整填料元件或者随机填料元件；或者

5）是包括波纹板、安装于壁上的叶片、横杆和螺旋扭转设计类型的静态混合器的一部分。

2.根据权利要求1所述的设备（1），其中，所述流体接触表面（20）不会向所述流体（2）大量地释放所述杀菌剂（22）。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备（1），其中，所述流体接触表面（20）包括胍或其衍生物。

4.根据权利要求1所述的设备（1），其中，所述流体接触表面（20）包括含有杀菌剂的聚合物。

5.根据权利要求4所述的设备（1），其中，所述含有杀菌剂的聚合物是共聚物或聚合物化合物。

6.根据权利要求1所述的设备（1），其中，所述静态混合元件（30）只在包围所述流体接触表面（20）的表面区域（21）中含有杀菌剂（22）。

7.一种使用权利要求1到权利要求6中任一项所述的设备（1）来降低含有细菌的流体（2’）的细菌计数的方法，包括步骤：

将含有细菌的流体（2’）通过所述入口（12）供给到所述设备（1），

在包括杀菌剂（22）的流体接触表面上处理所述含有细菌的流体（2’），以便形成具有降低的细菌计数的流体（2’’），

通过所述出口（14）从所述设备（1）去除具有降低的细菌计数的流体（2’’）。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于600秒。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于180秒。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于60秒。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于10秒。

12.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于5秒。

13.根据权利要求7所述的方法，其中，在所述设备（1）中的停留时间小于1秒。

14.根据权利要求7或权利要求8所述的方法，其中，所述流体（2’）在所述设备（1）中的温度在0℃和200℃之间。

15.根据权利要求7或权利要求8所述的方法，其中，所述流体（2’）在所述设备（1）中的温度在10℃到100℃之间。

16.根据权利要求7或权利要求8所述的方法，其中，所述流体（2’）在所述设备（1）中的温度在10℃到60℃之间。

17.根据权利要求7或权利要求8所述的方法，其中，所述流体（2’）在所述设备（1）中的温度在20℃到30℃之间。

18.根据权利要求7所述的方法，其中，所述流体（2’）的细菌含量在所述方法中降低log0.5到log7。

19.根据权利要求7所述的方法，其中，所述流体（2’）的细菌含量在所述方法中降低log2到log6。

20.根据权利要求7所述的方法，其中，所述流体（2’）的细菌含量在所述方法中降低log3到log5。