[发明专利]可溶性金属氧化物羧酸盐的旋涂组合物及其使用方法

权利要求书

1.旋涂组合物，其包含至少一种金属氧化物二羧酸盐和有机溶剂，其中所述金属氧化物二羧酸盐可溶于所述溶剂或在所述溶剂中胶体稳定，并且其中所述金属氧化物二羧酸盐能够在200℃至300℃达30至200秒的热处理过程中分解以提供经固化的金属氧化物膜，进一步地其中该溶剂选自乙二醇单烷基醚、二乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚、丙二醇二烷基醚、乙酸酯、乳酸酯、非环状酮、丙酮酸酯、丙酸酯或这些溶剂的混合物，进一步地其中所述二羧酸盐的羧酸根是丙酸根，和进一步地其中该组合物进一步包含至少一种聚合物，所述聚合物选自有机聚合物、无机聚合物及其混合物。

2.权利要求1的组合物，其中所述乙酸酯是羟基乙酸酯、乙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚乙酸酯、烷氧基乙酸酯或乙酰乙酸酯。

3.权利要求1或2的组合物，其中所述金属氧化物二羧酸盐中的金属是选自Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Hf、Ta、W、Re和Ir的至少一种高折射金属。

4.权利要求1或2的组合物，其中所述金属氧化物二羧酸盐是纳米粒子。

5.权利要求1或2的组合物，其中所述金属氧化物二羧酸盐是二羧酸氧化锆或二羧酸氧化钛。

6.权利要求1或2的组合物，其中所述聚合物可以包含至少一种包含疏水部分的结构(1)的单元、至少一种包含发色团部分的结构(2)的单元、至少一种包含交联部分的结构(3)的单元以及任选的包含能够交联所述聚合物的基团的单元，其中结构1-3可以由下式表示：

其中，R₁至R₉独立地选自氢和C₁-C₄烷基；W₁是完全或部分氟化的基团；X选自F、H和OH；W₂是包含发色团的有机部分，且W₃Y包含交联位点。

7.制造电子器件的方法，包括：

a.施涂权利要求1至6之一的组合物以形成金属氧化物二羧酸盐膜，和

b.加热经涂覆的衬底，由此形成经固化的金属氧化物膜。

8.权利要求7的方法，其中在加热步骤后所述金属氧化物膜的金属含量为10至85重量％。

9.权利要求8的方法，其中该金属是选自Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Hf、Ta、W、Re和Ir的至少一种高折射金属。

10.权利要求7至9之一的方法，其中在所述金属膜上方形成光致抗蚀剂膜。

11.权利要求10的方法，其中所述光致抗蚀剂膜用12nm至250nm范围的辐射成像并显影以形成图案。

12.权利要求7至9之一的方法，其中所述加热步骤在200℃至500℃的范围。

13.权利要求7至9之一的方法，其中所述金属是锆或钛。

14.权利要求7至9之一的方法，其中在加热步骤后所述金属氧化物膜的金属含量为10至70重量％的范围。

15.旋涂组合物，其包含至少一种金属氧化物二羧酸盐和有机溶剂，其中所述金属氧化物二羧酸盐可溶于所述溶剂或在所述溶剂中胶体稳定，并且其中所述金属氧化物二羧酸盐能够在200℃至300℃达30至200秒的热处理过程中分解以提供经固化的金属氧化物膜，进一步地其中所述金属氧化物二羧酸盐是纳米粒子，进一步地其中所述二羧酸盐的羧酸根是丙酸根，和进一步地其中该组合物进一步包含至少一种聚合物，所述聚合物选自有机聚合物、无机聚合物及其混合物。