[发明专利]用于对伽马辐射事件的评估的装置和方法有效
申请号: | 201480025944.2 | 申请日: | 2014-04-30 |
公开(公告)号: | CN105190357B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | C·W·莱尔凯;S·洛多梅茨;V·舒尔茨;B·魏斯勒 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G01T1/164 | 分类号: | G01T1/164;G01T1/20;G01T7/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 辐射 事件 评估 装置 方法 | ||
1.一种用于评估由伽马相机(10)探测到的伽马辐射事件并识别有效伽马辐射事件的评估装置(50),所述伽马相机(10)包括:闪烁器(12),其用于响应于入射伽马射线(22)和得到的伽马辐射事件而在所述闪烁器(12)中的光转换位置(44)处发射闪烁光子(42);以及位置敏感光探测器(14),其用于探测所发射的闪烁光子(42)并根据所述闪烁光子来获得空间信号分布(24),所述评估装置(50)包括:
-比较器(52),其用于针对所述闪烁器(12)中的不同的可能的光转换位置将所获得的空间信号分布(24)与预定的模型分布(76)进行比较,并用于根据所述比较来确定(S18)所述不同的可能的光转换位置的似然函数;以及
-选择器(54),其用于基于所述不同的可能的光转换位置的所述似然函数的最大值来选择最可能的光转换位置,并确定所述似然函数的所述最大值是否满足预定的选择准则(84),所述预定的选择准则指示所评估的伽马辐射事件是否是有效伽马辐射事件,所述预定的选择准则(84)是与阈值的比较,所述阈值被定义为校准数据集中的不同有效伽马辐射事件的最大似然值的分布的分位数。
2.根据权利要求1所述的评估装置,其中,所述校准数据集是根据以下而获得的:
-实验校准研究,其中,检查若干不同的对象(66)和/或校准体模;
-蒙特卡罗仿真,其中,对若干不同对象(66)和/或校准体模进行仿真;和/或
-分析建模,其中,对至少一个对象(66)和/或校准体模进行建模。
3.根据权利要求1所述的评估装置,其中,所述预定的模型分布是根据以下而获得的:
-实验校准流程;
-蒙特卡罗仿真;和/或
-分析建模。
4.一种用于对用于探测伽马辐射事件的伽马相机(10)的位置敏感光探测器(14)进行原位校准的校准装置(56),所述伽马相机(10)包括:闪烁器(12),其用于响应于来自校准体模的入射伽马射线(22)和得到的伽马辐射事件而在所述闪烁器(12)中的光转换位置(44)处发射闪烁光子(42);以及位置敏感光探测器(14),其包括用于探测所发射的闪烁光子(42)并根据所述闪烁光子来获得空间信号分布(24)的光敏元件的阵列,所述校准装置(56)包括:
-直方图模块(58),其用于确定至少一个光敏元件的由若干探测到的伽马辐射事件造成的能量谱(85)的直方图;
-背景值模块(60),其用于基于所述直方图来确定至少一个光敏元件的背景值(94);以及
-校准值模块(62),其用于根据所述直方图、预定的校准值(92)和所述背景值(94)来确定至少一个光敏元件的增益校准值(96)。
5.根据权利要求4所述的校准装置,其中,
所述直方图模块(58)被配置用于确定至少一个光敏元件的由若干探测到的伽马辐射事件造成的所述能量谱(85)的反对数归一化直方图(88);和/或
所述背景值模块(60)被配置拥有基于所述直方图的导数(91)的最大值来确定至少一个光敏元件的背景值(94)。
6.根据权利要求4所述的校准装置,其中,所述校准值模块(62)被配置用于根据交叉点(98)来确定至少一个光敏元件的增益校准值(96),所述直方图(88)在所述交叉点处下降到被计算为预定的校准值(92)和所述背景值(94)之和的极限值(100)以下。
7.一种核成像设备(64),包括:
-伽马相机(10),所述伽马相机包括:闪烁器(12),其用于响应于入射伽马射线(22)和得到的伽马辐射事件而在所述闪烁器(12)中的光转换位置(44)处发射闪烁光子(42);以及位置敏感光探测器(14),其用于探测所发射的闪烁光子(42)并根据所述闪烁光子来获得空间信号分布(24);以及
-根据权利要求1所述的评估装置(50)和/或根据权利要求4所述的校准装置(56)。
8.根据权利要求7所述的核成像设备(64),其中,所述闪烁器(12)包括单片闪烁晶体或闪烁晶体的阵列,尤其是LYSO晶体阵列。
9.根据权利要求7所述的核成像设备(64),其中,所述位置敏感光探测器(14)包括光敏元件的阵列,尤其是SiPM或dSiPM阵列。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司,未经皇家飞利浦有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480025944.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。