[发明专利]膜及其制造方法、复合体、膜层叠体、蚀刻方法

说明书

技术领域

本发明涉及膜及其制造方法、复合体、膜层叠体、使用膜进行的蚀刻方法。

背景技术

在光学材料、电子材料的领域中，对于集成度的提高、信息量的高密度化、图像信息的高精细化的要求逐渐提高。由此，在这些领域中，要求有更加均匀地在各种材料的表面设置微细的结构的技术(微细图案化)。

作为微细图案化的方法，例如已知有日本特开2011-173335号公报中记载的方法。该方法是通过将具有形成了多个μm尺度的微细的孔的多孔面的多孔膜的多孔面与成为材料的平坦的基板粘合、并进行蚀刻处理而将基板图案化的方法。作为多孔膜，例如有蜂窝结构的多孔膜，作为具有微细的结构的膜，除了多孔膜以外，例如还有日本特开2009-293019号公报中记载的那样的所谓柱膜。蜂窝结构的多孔膜是以蜂巢状的结构形成微细的孔的膜。另外，柱膜是在一方的膜面以一定的间距规则地排列多个突部而形成的膜。

在日本特开2011-173335号公报中，作为多孔膜的制造方法，记载有流延规定的高分子化合物的溶液而形成流延膜、使该流延膜上凝结并干燥的方法。该方法以变为蜂窝结构的方式在流延膜中形成多个μm尺度的微细的孔。日本特开2011-173335号公报中记载的方法中，为了尽可能均匀地形成孔的形状、直径，将疏水性的高分子化合物和两亲性的高分子化合物溶解于有机溶剂中，用该溶液形成流延膜，在规定条件下实施凝结和干燥。

发明内容

发明所要解决的问题

然而，即使为了将多孔膜向基板上贴附而涂布粘合剂，多孔膜的多孔面或柱膜的形成有突部的膜面也会因其结构而有排斥液状的粘合剂的趋势。另外，多孔膜的多孔面由于开孔率高，因此无法充分地确保与基板的粘合面积。由此，即使使用粘合剂，也经常无法将多孔膜的多孔面以足够的强度与基板粘合。

另外，由于多孔膜的多孔面与基板的粘合强度不够充分，因此在蚀刻处理时，会产生多孔膜从基板中剥离、多孔膜部分地从基板中浮起的问题。由此，存在有无法稳定地获得所需的微细结构的基板的问题。在蚀刻中日本特开2011-173335号公报中记载的湿式蚀刻在比较廉价的方面具有优势，然而在该湿式蚀刻处理中，这些问题有特别明显地显现的趋势。

另外，设置用于在多孔膜与基板之间夹设粘合剂的工序本身也成为降低微细图案化的生产性、成本升高的要因。

因而，本发明的目的在于，提供具备具有微细的结构、即使不使用粘合剂也可以与各种材料简便并且牢固地粘合的面的膜及其制造方法。另外，目的在于，还同时提供复合体、将膜层叠而得的膜层叠体、及使用膜进行的蚀刻方法。

用于解决问题的方法

本发明的膜具有疏水性高分子化合物和含有邻苯二酚基的化合物，形状及尺寸彼此相同的多个孔或多个突部沿着膜面以一定的间距规则地排列。含有邻苯二酚基的化合物是含有邻苯二酚基的两亲性高分子化合物。

含有邻苯二酚基的化合物优选随着靠近形成有孔或突部的膜面而含量增多。

含有邻苯二酚基的化合物优选利用能够生成含有邻苯二酚基的第一均聚物的第一化合物、与能够生成不含有邻苯二酚基的第二均聚物的第二化合物的聚合反应得到。该含有邻苯二酚基的化合物是具有多个第一均聚物的第一重复单元相连而成的含有邻苯二酚基部、和多个第二均聚物的第二重复单元相连而成的不含有邻苯二酚基部的聚合物。聚合物优选为含有邻苯二酚基部与不含有邻苯二酚基部的共聚物。优选第一重复单元具有下述式(1)的结构，第二重复单元具有下述式(2)的结构。

[化12]

[化13]

在将含有邻苯二酚基部的第一重复单元的数目设为n、将不含有邻苯二酚基部的第二重复单元的数目设为m时，比n/(m+n)优选为0.01以上0.8以下的范围内。

含有邻苯二酚基的化合物的量优选相对于疏水性高分子化合物100质量份为0.1质量份以上且50质量份以下的范围内。疏水性高分子化合物优选为聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丁二烯、或纤维素三乙酸酯。

本发明的复合体具备膜和基材。膜沿着膜面以一定的间距规则地排列有形状及尺寸彼此相同的多个孔或多个突部。膜含有疏水性高分子化合物和含有邻苯二酚基的化合物。含有邻苯二酚基的化合物是含有邻苯二酚基的两亲性高分子化合物。基材具有比形成有孔或突部的膜面的凹凸更平滑的表面。以使该表面与形成有孔或突部的膜面合在一起的状态将基材重叠在膜上。