[发明专利]处理装置以及处理方法

权利要求书

1.一种处理装置，其使比重不同的第一原料流体以及第二原料流体相互接触，在该第一原料流体以及第二原料流体接触的部分进行化学性的操作，其中，

所述处理装置具备：

分离槽，其以使所述第一原料流体以及第二原料流体分别分离为上层以及下层的状态收容所述第一原料流体以及第二原料流体；以及

流路形成构件，其配置在所述分离槽的内部，并且形成有使该分离槽的上层的所述第一原料流体与下层的所述第二原料流体接触的多个微小流路，

多个所述微小流路分别包括：第一流路，其上下贯通所述流路形成构件，将位于所述流路形成构件的下侧的所述第二原料流体向该流路形成构件的上侧引导；以及第二流路，其与所述第一流路相连，以便送入所述上层的所述第一原料流体并向所述第一流路内导入。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其中，

所述处理装置还具备将所述分离槽的上层的所述第一原料流体向所述第二流路输送的泵。

3.根据权利要求1所述的处理装置，其中，

所述流路形成构件具有多个单板构件，所述单板构件具有表面以及背面且相互在板厚方向上层叠，在多个所述单板构件中的至少一部分单板构件的表面以及背面中的至少一个面上，形成有所述微小流路。

4.根据权利要求1所述的处理装置，其中，

所述流路形成构件具有：合流部，其位于所述第一流路的上下方向的中途部位，允许从所述第二流路向所述第一流路中的所述第一原料流体进行合流；以及逆流防止部，其位于所述第一流路中的比所述合流部靠下侧的部位，防止所述上层的原料流体向下方逆流。

5.根据权利要求1所述的处理装置，其中，

所述流路形成构件以如下方式配置在所述分离槽内，即，使从形成在所述分离槽内的上层的所述第一原料流体与下层的所述第二原料流体之间的边界面的下侧送入的下层的所述第二原料流体通过所述第一流路而向所述边界面的上侧引导，并且使所述第一流路与所述第二流路彼此相连的部位位于所述边界面的下侧。

6.一种处理方法，其通过使比重不同的第一原料流体以及第二原料流体相互接触，从而在该第一原料流体以及第二原料流体接触的部分进行化学性的处理，其中，

所述处理方法包括如下步骤：

准备分离槽和流路形成构件，所述分离槽以使所述第一原料流体以及第二原料流体分别分离成上层以及下层的状态收容所述第一原料流体以及第二原料流体，所述流路形成构件形成用于使该分离槽的上层的所述第一原料流体与下层的所述第二原料流体以二相流状态接触的多个微小流路；

沿着各所述微小流路朝所述分离槽的上层向上方引导在所述分离槽中分离为所述下层的所述第二原料流体；以及

通过使分离为所述上层的所述第一原料流体与在该微小流路内流通的所述第二原料流体接触，从而进行所述化学性的操作。