[发明专利]图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件

权利要求书

1.一种图案形成方法，其依序包含：

-将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而对包含一种以上有机溶剂的显影液的溶解度减少的树脂、通过照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、及溶剂；

-经由液浸液对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；

-对所述感光化射线性或感放射线性膜进行加热的步骤；以及

-利用包含有机溶剂的显影液对所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；并且

在所述膜形成步骤之后且所述曝光步骤之前、和/或所述曝光步骤之后且所述加热步骤之前包含

-对所述感光化射线性或感放射线性膜进行清洗的步骤。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：在所述曝光步骤之后且所述加热步骤之前、或所述膜形成步骤之后且所述曝光步骤之前与所述曝光步骤之后且所述加热步骤之前此两者包含所述清洗步骤。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中所述清洗步骤包含利用纯水对所述感光化射线性或感放射线性膜进行清洗。

4.根据权利要求3所述的图案形成方法，其中所述清洗步骤包含在使用纯水的清洗之后，自所述感光化射线性或感放射线性膜上将纯水除去。

5.根据4所述的图案形成方法，其中纯水的除去为通过惰性气体喷射和/或旋转干燥而进行。

6.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进一步包含疏水性树脂。

7.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中相对于所述显影液的总量，所述显影液中的有机溶剂的含有率为90质量％以上、100质量％以下。

8.一种电子元件的制造方法，其包含根据权利要求1所述的图案形成方法。

9.一种电子元件，其是通过根据权利要求8所述的电子元件的制造方法而制造。