[发明专利]图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件

权利要求书

1.一种图案形成方法，其包括：

(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、

(2)利用光化射线或放射线对所述膜进行曝光、以及

(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的所述膜进行显影，且

所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有通过酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，

所述树脂(A)具有酚性羟基及由因酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基中的至少任一者，

所述树脂(A)具有由下述通式(I)所表示的重复单元，

包含所述有机溶剂的所述显影液含有添加剂，所述添加剂与所述极性基形成离子键、氢键及偶极相互作用中的至少一种相互作用，

通式(I)中，R₄₁、R₄₂及R₄₃分别独立地表示氢原子、烷基、卤素原子、氰基或烷氧基羰基；其中，R₄₂可与Ar₄键结而形成环，所述情况下的R₄₂表示单键或亚烷基；X₄表示单键、-COO-或-CONR₆₄-，当与R₄₂形成环时表示三价的连结基；R₆₄表示氢原子或烷基；L₄表示单键或亚烷基；Ar₄表示(n+1)价的芳香环基，当与R₄₂键结而形成环时表示(n+2)价的芳香环基；n表示1～4的整数；Y₂表示氢原子或因酸的作用而脱离的基，当n≧2时分别独立地表示氢原子或因酸的作用而脱离的基。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中所述树脂(A)进而具有具备通过酸的作用而分解的基的重复单元，所述重复单元为由下述通式(V)及通式(4)的任一者所表示的重复单元，

通式(V)中，R₅₁、R₅₂、及R₅₃分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、卤素原子、氰基、或烷氧基羰基；R₅₂可与L₅键结而形成环，所述情况下的R₅₂表示亚烷基；L₅表示单键或二价的连结基，当与R₅₂形成环时表示三价的连结基；R₅₄表示烷基，R₅₅及R₅₆分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、或芳烷基；R₅₅及R₅₆可相互键结而形成环；其中，R₅₅与R₅₆不同时为氢原子；

通式(4)中，R₄₁、R₄₂及R₄₃分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、卤素原子、氰基或烷氧基羰基；R₄₂可与L₄键结而形成环，所述情况下的R₄₂表示亚烷基；L₄表示单键或二价的连结基，当与R₄₂形成环时表示三价的连结基；R₄₄表示烷基、环烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、酰基或杂环基；M₄表示单键或二价的连结基；Q₄表示烷基、环烷基、芳基或杂环基；Q₄、M₄及R₄₄的至少两个可键结而形成环。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中由所述通式(I)所表示的重复单元的一部分为由下述通式(3)所表示的重复单元，

通式(3)中，Ar₃表示芳香环基；R₃表示烷基、环烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、酰基或杂环基；M₃表示单键或二价的连结基；Q₃表示烷基、环烷基、芳基或杂环基；Q₃、M₃及R₃的至少两个可键结而形成环。

4.根据权利要求3所述的图案形成方法，其中所述通式(3)中的R₃为碳数为2以上的基。