[发明专利]聚合物溶液、聚合物膜、叠层复合材料、显示用、光学用或照明用的元件、以及它们的制造在审

专利信息
申请号: 201480020062.7 申请日: 2014-04-02
公开(公告)号: CN105102539A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 江口敏正;楳田英雄;川崎律也;片山敏彦;内藤学 申请(专利权)人: 住友电木株式会社
主分类号: C08L79/04 分类号: C08L79/04;B32B17/10;B32B27/00;C08G73/22;C08J5/18
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;王磊
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 溶液 复合材料 显示 光学 照明 元件 以及 它们 制造
【权利要求书】:

1.一种聚合物溶液,其特征在于:

含有聚合物和溶剂,该聚合物包含具有苯并噁唑前体结构的结构单元或具有苯并噁唑结构的结构单元。

2.如权利要求1所述的聚合物溶液,其特征在于:

具有苯并噁唑前体结构的结构单元和具有苯并噁唑结构的结构单元相对于构成所述聚合物的全部结构单元的合计超过0且为50摩尔%以下。

3.如权利要求1或2所述的聚合物溶液,其特征在于:

所述具有苯并噁唑前体结构的结构单元或具有苯并噁唑结构的结构单元为选自下述化学式所示的结构单元中的至少一种,

R1为具有芳香环或脂环式结构的基团,R2为任意的取代基,3个或4个R2可以分别相同或不同,X为二价的原子或二价的有机基团。

4.如权利要求1~3中任一项所述的聚合物溶液,其特征在于:

具有苯并噁唑前体结构的二胺成分单体相对于所述聚合物的合成中所使用的二胺成分单体总量超过0且为50摩尔%以下。

5.如权利要求1~4中任一项所述的聚合物溶液,其特征在于:

所述聚合物的合成中所使用的具有苯并噁唑前体结构的二胺成分单体为选自下述化学式所示的单体中的至少一种,

R2为任意的取代基,3个或4个R2可以分别相同或不同,X为二价的原子或二价的有机基团。

6.如权利要求1~5中任一项所述的聚合物溶液,其特征在于:

以所述聚合物溶液形成的换算为厚度10μm的膜的波长400nm的透光率为60%以上。

7.如权利要求1~6中任一项所述的聚合物溶液,其特征在于:

以所述聚合物溶液形成的膜的断裂能为2.0MJ/m3以上。

8.如权利要求1~7中任一项所述的聚合物溶液,其特征在于:

含有如下的聚合物,该聚合物包含化学式(I)、(II)或(III)或者(IV)、(V)或(VI)所示的结构单元和化学式(VII)、(VIII)、(IX)或(X)所示的结构单元,将化学式(I)~(X)所示的结构单元在所述聚酰胺中的摩尔分率分别记为l、m、n、o、p、q、r、s、t、u时,满足下述式(1)~(2),

0<l+m+n+o+p+q≤50…(1)

50≤r+s+t+u<100…(2)

式(I)~(VI)中,R1为具有芳香环或脂环式结构的基团,R2为任意的取代基,3个或4个R2可以分别相同或不同,X为二价的原子或二价的有机基团,

式(VII)中,R3为具有芳香环或脂环式结构的基团,R4为具有芳香环或脂环式结构的基团,R5为任意的取代基,R6为任意的取代基,4个R5和R6可以分别相同或不同,但是,式(VII)所示的结构单元不包括式(I)和(II)所示的结构单元,

式(VIII)中,R7为吸电子基团,R8为吸电子基团,R9为任意的取代基,R10为任意的取代基,R11为具有芳香环或脂环式结构的基团,3个R9和R10可以分别相同或不同,但是,式(VIII)所示的结构单元不包括式(I)和(II)所示的结构单元,

式(IX)中,R12为含Si的基团、含P的基团、含S的基团、卤化烃基或含醚键的基团,其中,在分子内,具有这些基团的结构单元可以混合存在,R13为任意的取代基,R14为任意的取代基,R15为直接键合或以苯基为必需成分的碳原子数6~12的任意基团,R16为直接键合或以苯基为必需成分的碳原子数6~12的任意基团,R17为具有芳香环或脂环式结构的基团,4个R13和R14可以分别相同或不同,但是,式(IX)所示的结构单元不包括式(I)和(II)所示的结构单元,

式(X)中,R18为具有芳香环或脂环式结构的基团,R19为具有芳香环或脂环式结构的基团,但是,式(X)所示的结构单元不包括式(III)所示的结构单元。

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