[发明专利]MALDI用试样调制方法以及试样调制装置

权利要求书

1.一种MALDI用试样调制方法，其是调制用于使用了基质辅助激光解吸离子化法的质谱分析的试样的试样调制方法，其特征在于，实施如下步骤：

a)基质层叠步骤，在真空气氛中使基质物质气化，使该基质物质层叠在载有作为测定对象的样品的试样基板表面；

b)溶剂导入步骤，使形成在所述试样基板上的基质膜层表面与气体状或液体状的规定溶剂接触，使该溶剂浸润到所述基质膜层中；

c)基质再层叠步骤，在真空气氛中使基质物质气化，再次使基质物质层叠在所述溶剂已浸润的状态的、或浸润溶剂已挥发的状态的所述基质膜层表面。

2.根据权利要求1所述的MALDI用试样调制方法，其特征在于，

所述溶剂导入步骤中，在充满了气化溶剂的容器内，将形成有基质膜层的试样基板放置规定时间，由此使该溶剂浸润到基质膜层中。

3.根据权利要求1所述的MALDI用试样调制方法，其特征在于，

所述溶剂导入步骤中，向形成在试样基板上的基质膜层表面喷雾溶剂，由此使该溶剂浸润到基质膜层中。

4.一种MALDI用试样调制装置，是用于权利要求2所述的MALDI用试样调制方法的试样调制装置，其特征在于，具备有：

a)可密闭的容器；

b)维持该容器内真空气氛的真空排气部；

c)将载有作为测定对象的样品的试样基板保持在所述容器内的试样保持部；

d)与该试样保持部所保持的试样基板的样品放置面相对配置，在所述容器内将基质物质加热并蒸镀在所述试样基板上的蒸镀源；

e)在所述真空排气部没有进行真空排气的状态下，向所述容器内导入气化溶剂的气化溶剂供给部，

所述MALDI用试样调制装置能够在所述容器内通过所述试样保持部保持住试样基板的状态下，依次实施所述基质层叠步骤、所述溶剂导入步骤以及所述基质再层叠步骤。

5.一种MALDI用试样调制方法，是调制用于使用了基质辅助激光解吸离子化法的质谱分析的试样的试样调制方法，其特征在于，实施如下步骤：

a)基质层叠步骤，在真空气氛中使基质物质气化，使该基质物质层叠在载有作为测定对象的样品的试样基板表面；

b)溶液导入步骤，向形成在所述试样基板上的基质膜层表面，喷雾为不饱和溶液的基质溶液，使该溶液浸润到基质膜层中。