[发明专利]图案剥离方法、电子元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201480019824.1 | 申请日： | 2014-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN105103054B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 山中司;藤森亨 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨文娟,臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 剥离 方法 电子元件 及其 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种图案剥离方法，包括：
抗蚀剂膜形成步骤，在基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物，而形成抗蚀剂膜；
曝光步骤，对所述抗蚀剂膜进行曝光；
显影步骤，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的所述抗蚀剂膜进行显影，而形成负型图案；及
剥离步骤，使用下述A或B的液体将所述负型图案剥离：
A：含有亚砜化合物和/或酰胺化合物的液体、
B：含有硫酸与过氧化氢的液体。
2.根据权利要求1所述的图案剥离方法，其中，
所述A的液体是含有选自由二甲基亚砜及N-甲基吡咯烷酮所构成的群组的至少一种的液体。
3.根据权利要求1或2所述的图案剥离方法，其中，
所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由于酸的作用而对含有有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、及通过照射光化射线或放射线而产生酸的化合物。
4.根据权利要求3所述的图案剥离方法，其中，
所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物进一步含有疏水性树脂。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案剥离方法，其中，
所述有机溶剂是乙酸丁酯。
6.一种电子元件的制造方法，其包含根据权利要求1至5中任一项所述的图案剥离方法。
7.一种电子元件，其利用根据权利要求6所述的电子元件的制造方法而制造。
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