[发明专利]内窥镜用高频处理器具在审

专利信息
申请号: 201480019282.8 申请日: 2014-10-09
公开(公告)号: CN105073049A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 和家史知;坂本雄次 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: A61B18/12 分类号: A61B18/12
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 内窥镜 高频 处理 器具
【权利要求书】:

1.一种内窥镜用高频处理器具,其中,该内窥镜用高频处理器具包括:

护套,其由具有绝缘性的材料形成;

轴状构件,其由具有导电性的材料形成,并以能够进退的方式贯穿于所述护套内;以及

电极,其形成有能够向前方喷出被供给到所述护套内的流体的管路,该电极连接于所述轴状构件的顶端部,

所述电极具有向所接触的组织通电而进行处理的外周面和在供给流体时与所述流体相面对的所述管路的内周面,

所述外周面的算术平均粗糙度大于所述内周面的算术平均粗糙度,并且所述内周面的算术平均粗糙度为0.1μm以下。

2.根据权利要求1所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述电极是沿着所述护套的长度轴线形成有所述管路的管状电极。

3.根据权利要求2所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述电极的顶端面的算术平均粗糙度大于所述管路的内周面的算术平均粗糙度,且所述电极的顶端面的算术平均粗糙度为所述外周面的算术平均粗糙度以下。

4.根据权利要求3所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述管路的内周面的算术平均粗糙度为所述外周面的算术平均粗糙度的六分之一以下。

5.根据权利要求1所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述电极具有:

电极主体,其形成为中空;以及

覆盖层,其设于所述电极主体的内周面。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述电极具有位于顶端侧的大径部和位于基端侧的小径部,

所述管路穿过所述小径部在所述大径部的顶端面开口。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

在所述电极的所述外周面、所述管路的所述内周面以及所述电极的所述顶端面分别与组织相接触时的摩擦系数中,

所述外周面的摩擦系数大于所述内周面的摩擦系数且所述外周面的摩擦系数为所述顶端面的摩擦系数以上,所述外周面构成为能够切开与所述外周面相接触的组织,

所述顶端面的摩擦系数为所述外周面的摩擦系数以下,并且所述顶端面的摩擦系数大于所述内周面的摩擦系数,所述顶端面构成为在与所述组织相接触的状态下使所述电极移动、并且防止从所述管路排出的凝固物滞留于所述顶端面,

所述内周面的摩擦系数小于所述外周面的摩擦系数和所述顶端面的摩擦系数,所述内周面的摩擦系数构成为伴随着所述组织的切开能够利用流体的供给来剥离并排出在所述内周面上凝固的凝固物。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的内窥镜用高频处理器具,其中,

所述电极的长度为1mm~5mm,并且所述小径部的外径为0.3mm~0.5mm,

所述管路的内径为0.2mm~0.4mm,并且与所述管路相连通的所述流体的供给口中的供给所述流体的压力为100kPa~3000kPa。

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