[发明专利]用于监测内窥镜的后处理装置的方法和系统

权利要求书

1.一种用于监测内窥镜的后处理装置(12)特别是清洁和/或消毒装置的方法，根据所述方法，各后处理操作的一个或更多个处理参数以及时间在至少一个后处理装置(12)中的至少一个内窥镜的多个后处理操作期间被记录，并且与相应后处理操作相关联地被存储，其特征在于，借助记录的至少一个处理参数在评价装置(14)中执行所述记录的至少一个处理参数的趋势分析。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，记录后处理装置指示符、操作者指示符、后处理程序指示符、经后处理的至少一个内窥镜的至少一个内窥镜指示符、至少一个后处理试剂指示符、压力损耗和/或压力损耗速度、待计量的至少一个后处理试剂的至少一个剂量、所述后处理操作的开始和/或结束时间、处理持续时间、故障、操作误差和/或误差消息。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，对于执行多个不同部分操作的后处理操作，记录相对于个别部分操作的部分操作相关处理参数，特别地，部分操作指示符、所述后处理部分操作的持续时间和/或在所述部分操作期间要计量的一个或更多个后处理试剂的剂量。

4.根据权利要求1至3中的一项所述的方法，其特征在于，在所述趋势分析中，记录的至少一个处理参数根据所述后处理操作的相应开始或结束时间、所述后处理装置指示符、所述后处理程序指示符、部分操作指示符、所述操作者指示符和/或内窥镜指示符被表现和/或被评价。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，根据时间点、所述后处理装置指示符、所述操作者指示符、所述后处理程序指示符、所述部分程序指示符和/或所述至少一个内窥镜指示符过滤针对所述表现和/或评价所记录的数据。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述趋势分析对记录的处理参数，特别是剂量或处理持续时间是否随时间发展来进行分析，使得如果该趋势持续，则该处理参数脱离校准范围或容差范围。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，如果所述趋势分析指示了这样的趋势(22)，则在记录的处理参数脱离所述校准范围或容差范围之前，用信号通知所述后处理装置(12)的维修需要(24)。

8.根据权利要求1至7中的一项所述的方法，其特征在于，如果所述趋势分析表明针对一个操作者(30，32)与其他操作者相比来评价故障出现的频度、操作误差和/或误差消息，则用信号通知操作者的培训需要。

9.一种用于监测内窥镜的后处理装置(12)的系统(10)，所述系统(10)包括至少一个后处理装置(12)和至少一个评价装置(14)，其中，所述后处理装置(12)被设计成针对后处理操作记录相应后处理操作的一个或更多个处理参数以及时间并且将所述一个或更多个处理参数以及时间与相应的后处理操作关联地保存和/或将所述一个或更多个处理参数以及时间发送到所述评价装置(14)，其特征在于，所述评价装置(14)被设计并且设置成借助所述记录的至少一个处理参数执行所述记录的至少一个处理参数的趋势分析。

10.根据权利要求9所述的系统(10)，其特征在于，所述评价装置(14)被集成在所述后处理装置(12)中。

11.根据权利要求9或10所述的系统(10)，其特征在于，所述系统(10)被设计和设置成执行根据权利要求1至8中的一项所述的方法。