[发明专利]具有黑色硬质覆膜的装饰品

权利要求书

1.一种装饰品，其特征在于，其是具有基材和形成于所述基材上的由类金刚石形成的黑色硬质覆膜的装饰品，

所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量大于所述黑色硬质覆膜的所述基材侧的表面处的氢含量，所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为30.0～75.0原子％，所述黑色硬质覆膜包含由类金刚石形成的倾斜层，所述倾斜层中的氢含量随着远离所述基材而增加，所述黑色硬质覆膜的波长350～750nm的光谱反射率的最大值和最小值的差为5.0％以下。

2.根据权利要求1所述的装饰品，其特征在于，

所述倾斜层的所述基材侧的表面处的氢含量为0～24.0原子％，

所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为30.0～75.0原子％。

3.根据权利要求2所述的装饰品，其特征在于，

所述黑色硬质覆膜还包含在比所述倾斜层靠所述基材侧的位置形成的、由类金刚石形成的低氢含量层，

所述低氢含量层中的氢含量小于30.0原子％。

4.根据权利要求3所述的装饰品，其特征在于，从所述基材侧依次形成有所述低氢含量层和所述倾斜层，所述低氢含量层的所述倾斜层侧的表面处的氢含量和所述倾斜层的所述低氢含量层侧的表面处的氢含量为相同量。

5.根据权利要求3所述的装饰品，其特征在于，

所述黑色硬质覆膜层包含作为所述低氢含量层的第一低氢含量层和第二低氢含量层，并且还包含由类金刚石形成的中间层，

从所述基材侧依次形成有所述第一低氢含量层、所述中间层、所述第二低氢含量层以及所述倾斜层，

所述第一低氢含量层中的氢含量小于所述第二低氢含量层中的氢含量，

所述中间层中的氢含量随着远离所述基材而增加，

所述第一低氢含量层的所述中间层侧的表面处的氢含量和所述中间层的所述第一低氢含量层侧的表面处的氢含量为相同量，所述中间层的所述第二低氢含量层侧的表面处的氢含量和所述第二低氢含量层的所述中间层侧的表面处的氢含量为相同量，所述第二低氢含量层的所述倾斜层侧的表面处的氢含量和所述倾斜层的所述第二低氢含量层侧的表面处的氢含量为相同量。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的装饰品，其特征在于，

所述黑色硬质覆膜还包含形成在所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的、由类金刚石形成的最表面层，

所述最表面层中的氢含量相对于所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为±10.0原子％的量。

7.根据权利要求1所述的装饰品，其特征在于，所述黑色硬质覆膜中的氢含量随着远离所述基材而增加。

8.一种装饰品的制造方法，其特征在于，其是具有基材和形成于所述基材上的由类金刚石形成的黑色硬质覆膜的装饰品的制造方法，

其包括利用等离子体CVD法来形成所述黑色硬质覆膜的黑色硬质覆膜形成工序，

所述黑色硬质覆膜形成工序中，以如下方式形成所述黑色硬质覆膜：所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量大于所述黑色硬质覆膜的所述基材侧的表面处的氢含量，所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为30.0～75.0原子％，且所述黑色硬质覆膜包含由类金刚石形成的倾斜层，所述倾斜层中的氢含量随着远离所述基材而增加，所述黑色硬质覆膜的波长350～750nm的光谱反射率的最大值和最小值的差为5.0％以下。

9.根据权利要求8所述的装饰品的制造方法，其特征在于，所述黑色硬质覆膜形成工序中，对真空装置中配置的基材施加负电压，使包含原料物质的气体等离子体化，进行化学反应之后，吸附涂布在所述基材上，从而形成黑色硬质覆膜，其中相对于覆膜形成开始起算的时间，控制电压从而控制黑色硬质覆膜的氢含量。