[发明专利]新型双亲聚合物及其在处理由疏水材料制成的表面中的用途

权利要求书

1.处理全部或部分由疏水材料构成的表面的方法，其特征在于包括：

-阶段a)，在其过程中使线性、支化或交联聚合物的水、水/有机或有机溶液与所述表面接触并培育，所述聚合物每100mol％含有：

-a)摩尔比例大于或等于75％和小于或等于99.95％的由N,N-二甲基丙烯酰胺或N,N-二乙基丙烯酰胺产生的单体单元；

-b)摩尔比例大于或等于0.05％和小于或等于1％的由式(I)单体产生的单体单元：

CH₂＝C(R₁)-C(＝O)-O-[CH₂-CH(R₂)-O]_n-R₃(I)

其中n代表1-50的数，R₁代表氢原子或甲基，R₂代表氢原子、甲基或乙基，R₃代表含有8-30个碳原子的饱和或不饱和和直链或支链脂族烃基，和-c)任选的摩尔比例大于0％和小于或等于24％的由游离、部分成盐或完全成盐的2-甲基-2-[(1-氧代-2-丙烯基)氨基]-1-丙烷磺酸产生的单体单元或由式(II)单体产生的单体单元：

CH₂＝C(R₄)-C(＝O)-Y-(CH₂)_m-N(R₅)(R₆)(II)

其中m代表1-4的数，Y代表O或NH，R₄代表氢原子或甲基，相同或不同的R₅和R₆代表甲基或乙基，和

-d)任选的摩尔比例大于0％和小于或等于1％的二烯属或多烯属交联单体；

-阶段b)，漂洗从阶段a)获得的所述表面，以从所述表面去除没有吸附在表面上的所述聚合物；

-任选的阶段c)，干燥从阶段b)获得的所述漂洗过的表面。

2.如权利要求1所定义的方法，其中全部或部分由疏水材料构成的所述表面为芯片、或微系统的表面。

3.如权利要求1所定义的方法，其中全部或部分由疏水材料构成的所述表面为微流体系统、或芯片上的实验室的表面。

4.如权利要求1-3中任一项所定义的方法，其特征在于在阶段a)之前，其包括阶段d)，成型或蚀刻阶段，以在全部或部分由疏水材料构成的所述表面上产生在一个方向上表现出至少一个小于1mm的尺寸的通道。

5.如权利要求1所定义的方法，其中由所述式(I)单体产生的单体单元由如下产生：

-二十五重乙氧化的甲基丙烯酸山嵛基酯，或

-二十二重乙氧化的甲基丙烯酸硬脂基酯。

6.如权利要求1或4所定义的方法，其特征在于，当含有由所述式(II)单体产生的单体单元时，这些由如下产生：

-甲基丙烯酸二甲基氨基乙基酯，或

-N-[3-(二甲基氨基)丙基]丙烯酰胺。

7.如权利要求1所定义的方法，每100mol％含有：

-a)摩尔比例大于或等于99％和小于或等于99.9％的由N,N-二甲基丙烯酰胺或N,N-二乙基丙烯酰胺产生的单体单元；和

-b)摩尔比例大于或等于0.1％和小于或等于1％的由式(I')单体产生的单体单元：

CH₂＝C(CH₃)-C(＝O)-O-[CH₂-CH₂-O]_n'-R'₃(I')

其中n'代表4-25的数，R'₃代表含有12-22个碳原子的直链或支链烷基。