[发明专利]支撑基板以及半导体用复合晶片有效
申请号: | 201480016581.6 | 申请日: | 2014-10-15 |
公开(公告)号: | CN105051862B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 高垣达朗;岩崎康范;宫泽杉夫;井出晃启;中西宏和 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;C04B35/115 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 李晓 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支撑 以及 半导体 复合 晶片 | ||
1.一种支撑基板,是半导体用复合晶片的支撑基板,
所述支撑基板由多晶陶瓷烧结体形成,在所述支撑基板的外周边缘部有切口,所述切口由烧结面形成。
2.根据权利要求1所述的支撑基板,其中,所述烧成面的表面粗糙度Ra在0.5μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的支撑基板,其中,所述烧成面通过凝胶注塑成形而成形。
4.根据权利要求1或2所述的支撑基板,其中,所述多晶陶瓷烧结体通过带状成形体的烧结而制作,所述带状成形体是使用目标形状的金属模具进行冲裁加工而成的,所述烧成面通过所述带状成形体的所述冲裁加工而成形。
5.根据权利要求1~4任意一项所述的支撑基板,其中,所述多晶陶瓷烧结体为透光性氧化铝。
6.根据权利要求1~5任意一项所述的支撑基板,其中,依据的是SEMI标准。
7.一种半导体用复合晶片,具有权利要求1~6任意一项所述的支撑基板、以及与所述支撑基板的接合面接合的施主基板。
8.根据权利要求7所述的复合晶片,其中,所述施主基板由单晶硅构成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造