[发明专利]混合反应器及相关的方法

权利要求书

1.一种混合反应器，通过混合前体流体与比所述前体流体温度更高的第二流体用于沉淀纳米颗粒，其中，所述反应器包括：具有配置为接收所述前体流体的流的入口区域和配置为输出混合流体的出口区域的第一流体导管；以及配置为接收所述第二流体的流的第二流体导管，所述第二流体导管以基本垂直于所述第一流体导管内的流的方向延伸至所述第一流体导管，并且具有用于将所述第二流体引入至所述第一流体导管的开口。

2.根据权利要求1所述的混合反应器，其中，所述入口区域与所述出口区域基本同轴。

3.根据权利要求1或2所述的混合反应器，配置为使得所述入口区域和所述出口区域二者中的流是向上的、基本垂直的方向。

4.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述入口区域具有用于接收所述前体流体的单个入口端口。

5.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述开口朝向通过第一导管的流的方向。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的混合反应器，其中，所述开口逆向朝向通过所述第一导管的流的方向。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的混合反应器，其中，所述开口朝向基本垂直于通过所述第一导管的流的方向。

8.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述第一导管具有基本均匀的横截面。

9.根据权利要求8所述的混合反应器，其中，所述第一导管包括适于填充第一导管中的凹部的成形件，因此所述成形件至少部分地限定所述均匀的横截面。

10.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述第二流体导管延伸穿过所述第一流体导管的全部宽度。

11.根据权利要求10所述的混合反应器，其中，所述第二流体导管延伸穿过所述第一流体导管，并被配置为使所述第二流体从两个相对的方向流向所述开口。

12.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述开口将所述第二流体直接引入至所述第一流体导管的中心流动区域。

13.根据权利要求12所述的混合反应器，其中，所述第一流体导管具有圆形横截面，并且在所述第一流体导管的中心轴线上引入所述第二流体。

14.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述第二流体是在所述第一流体导管的横截面的多个区域引入，所述区域围绕所述第一导管的中心轴线旋转对称。

15.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述开口通过所述第二流体导管的侧壁限定。

16.根据前述权利要求中任一所述的混合反应器，其中，所述第二流体导管包括多个开口。

17.根据权利要求16所述的混合反应器，其中，所述开口沿所述第二流体导管轴向间隔。

18.根据权利要求16或17所述的混合反应器，其中，所述开口围绕所述流体导管周向间隔。

19.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述反应器包括具有两个相对的端口和第三侧端口的T形件，其中，所述第一流体导管包括所述相对的端口之间的区域，并且所述第二流体导管经由所述侧端口引入。

20.根据权利要求1至18中任一项所述的混合反应器，其中，所述反应器包括具有第一对相对的端口和第二对相对的端口的四通管，所述第一对与所述第二对成90度，其中，所述第一流体导管包括所述第一对端口之间的区域，并且所述第二流体导管通过所述第二对端口引入。

21.根据前述权利要求中任一项所述的混合反应器，其中，所述第二导管的轮廓调整为改善所述第二导管下游的混合。

22.根据权利要求21所述的混合反应器，其中，所述第二导管的轮廓通过与其连接的成形件调整。

23.根据权利要求22所述的混合反应器，其中，所述成形件远离所述第二流体导管逐渐变小，使得上游方向更狭窄。

24.根据权利要求21或22所述的混合反应器，其中，所述成形件在垂直于通过所述第一导管的流的方向延伸所述第一导管的轮廓。