[发明专利]并入有提升光圈层的显示设备及其制造方法有效
| 申请号: | 201480013898.4 | 申请日: | 2014-03-03 |
| 公开(公告)号: | CN105164563A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
| 发明(设计)人: | 蒂莫西·J·布罗斯尼汉;杰维尔·维拉瑞欧;迈克尔·安德鲁·金格拉斯 | 申请(专利权)人: | 皮克斯特隆尼斯有限公司 |
| 主分类号: | G02B26/02 | 分类号: | G02B26/02 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 并入 提升 光圈 显示 设备 及其 制造 方法 | ||
1.一种设备,其包括:
显示元件阵列,其耦合到衬底;
提升光圈层EAL,其悬置于所述显示元件阵列上方且耦合到所述衬底,其中对于所述显示元件中的每一者,所述EAL包含:
至少一个光圈,其是穿过所述EAL而界定,以允许光通过所述至少一个光圈;
光阻断材料层,其包含用于阻断未通过所述至少一个光圈的光的光阻断区域;及
蚀刻孔,其形成于所述光阻断区域外,其经配置以允许流体通过所述EAL。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述蚀刻孔大致定位于相邻显示元件的所述光阻断区域之间的相交点处。
3.根据权利要求1所述的设备,其中所述蚀刻孔延伸相邻显示元件的所述光阻断区域之间的距离的约一半。
4.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括其上形成所述显示元件阵列和所述EAL的牺牲模具,其中所述牺牲模具包含在小于约500℃的温度下升华的材料。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述模具包含降冰片烯或降冰片烯的衍生物。
6.根据权利要求1所述的设备,其中所述显示元件包含基于微机电系统MEMS快门的显示元件。
7.根据权利要求1所述的设备,其进一步包括:
显示器;
处理器,其经配置以与所述显示器通信,所述处理器经配置以处理图像数据;及
存储器装置,其经配置以与所述处理器通信。
8.根据权利要求7所述的设备,其进一步包括:
驱动器电路,其经配置以将至少一个信号发送到所述显示器;且其中
所述处理器进一步经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。
9.根据权利要求7所述的设备,其进一步包括:
图像源模块,其经配置以将所述图像数据发送到所述处理器,其中所述图像源模块包含接收器、收发器和发射器中的至少一者。
10.根据权利要求7所述的设备,其进一步包括:
输入装置,其经配置以接收输入数据且将所述输入数据传送到所述处理器。
11.一种设备,其包括:
显示元件阵列,其耦合到衬底;
提升光圈层EAL,其悬置于所述显示元件阵列上方且耦合到所述衬底,对于所述显示元件中的每一者,所述EAL包含至少一个光圈以用于允许光通过所述至少一个光圈;
多个锚,其将所述EAL支撑于所述衬底上方;及
聚合物材料,其至少部分地环绕所述多个锚的一部分。
12.根据权利要求11所述的设备,其中所述聚合物材料在穿过所述EAL中所包含的所述光圈的一组光学路径外延伸远离所述锚。
13.根据权利要求11所述的设备,其中所述聚合物材料在所述显示元件的机械组件的行进路径外延伸远离所述锚。
14.一种制造方法,其包括:
在形成于衬底上的第一模具上形成机电系统EMS显示元件,其中所述EMS显示元件包含悬置于所述衬底上方的一部分;
在形成于所述EMS显示元件上方的第二模具上形成提升光圈层EAL;
通过施加湿式蚀刻而部分地移除所述第一模具和所述第二模具中的至少一者的至少第一部分;及
通过施加干式等离子体蚀刻而部分地移除所述第一模具和所述第二模具中的至少一者的至少第二部分。
15.根据权利要求14所述的方法,其中一起施加所述湿式蚀刻和所述干式等离子体蚀刻实质上全部移除所述第一模具和所述第二模具。
16.根据权利要求14所述的方法,其中施加所述湿式蚀刻和所述干式等离子体蚀刻使所述第一模具和所述第二模具中的至少一者的第三部分保持完整。
17.根据权利要求16所述的方法,其中所述第三部分至少部分地环绕将所述EAL支撑于所述衬底上方的锚。
18.根据权利要求16所述的方法,其进一步包括形成穿过所述EAL的蚀刻孔,且其中穿过所述蚀刻孔将所述湿式蚀刻和干式蚀刻施加到所述第一模具和所述第二模具中的至少一者。
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