[发明专利]厌氧处理系统及厌氧处理方法有效
| 申请号： | 201480013244.1 | 申请日： | 2014-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN105164062B | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | 藤本典之;稻叶英树;珠坪一晃 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社;国立研究开发法人国立环境研究所 |
| 主分类号： | C02F3/28 | 分类号： | C02F3/28;C02F1/70 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 温旭,郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 系统 方法 | ||
1.一种厌氧处理系统，其具备通过对流入的有机废水进行厌氧处理而产生生物气体的厌氧处理槽，所述厌氧处理系统的特征在于，
所述生物气体包含还原性较高的气体，
所述厌氧处理系统还具备在所述厌氧处理槽的前级处理所述有机废水的前级处理槽，
所述厌氧处理系统还具备气体回流构件，所述气体回流构件使在所述厌氧处理槽中产生的所述生物气体的至少一部分回流到流向所述厌氧处理槽的有机废水中，使所述生物气体中的还原性较高的气体溶解于处于氧化还原电位为-200mV以上的氧化状态的有机废水中，从而使有机废水的氧化还原电位降低，
在所述厌氧处理槽中，对氧化还原电位降低后的所述有机废水进行厌氧处理。
2.根据权利要求1所述的厌氧处理系统，其特征在于，
所述气体回流构件具有将所述生物气体的至少一部分回流到所述前级处理槽的第1气体回流通道。
3.根据权利要求1所述的厌氧处理系统，其特征在于，
所述厌氧处理系统还具备还原槽，该还原槽设置于所述前级处理槽的前级，并对所述有机废水进行还原处理，
所述气体回流构件具有使所述生物气体的至少一部分回流到所述还原槽的第2气体回流通道。
4.根据权利要求2所述的厌氧处理系统，其特征在于，
所述厌氧处理系统还具备还原槽，该还原槽设置于所述前级处理槽的前级，并对所述有机废水进行还原处理，
所述气体回流构件具有使所述生物气体的至少一部分回流到所述还原槽的第2气体回流通道。
5.根据权利要求2所述的厌氧处理系统，其特征在于，
还具备还原槽，该还原槽设置于所述前级处理槽的前级，并对所述有机废水进行还原处理，
所述气体回流构件具有将所述前级处理槽内的气体的一部分输送到所述还原槽的气体输送通道。
6.一种厌氧处理方法，其具备在厌氧处理槽中通过对有机废水进行厌氧处理而产生生物气体的厌氧处理工序，所述厌氧处理方法的特征在于，
所述生物气体包含还原性较高的气体，
所述厌氧处理方法还具备前级处理工序，在所述厌氧处理槽的前级处理所述有机废水，
所述厌氧处理方法还具备气体回流工序，在所述气体回流工序中，使在所述厌氧处理槽中产生的所述生物气体的至少一部分回流到流向所述厌氧处理槽的有机废水中，使所述生物气体中的还原性较高的气体溶解于处于氧化还原电位为-200mV以上的氧化状态的有机废水中，从而使有机废水的氧化还原电位降低，
在所述厌氧处理工序中，对氧化还原电位降低后的所述有机废水进行厌氧处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友重机械工业株式会社;国立研究开发法人国立环境研究所，未经住友重机械工业株式会社;国立研究开发法人国立环境研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480013244.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
