[发明专利]固态成像装置、其制造方法和电子设备

权利要求书

1.一种固态成像装置，包括：

基板中的有效像素区域，有效像素配置在所述有效像素区域中；

所述有效像素区域周围的配线区域，电极或配线设置在所述配线区域中；

所述配线区域外侧的周边区域；和

在所述基板上形成的膜，

其中所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述膜在所述配线区域中的截面高度，并且所述膜在所述周边区域中的截面高度和所述膜在夹于所述有效像素区域和所述配线区域之间的中间区域的至少更靠近所述配线区域的部分中的截面高度处于所述膜在所述有效像素区域中的截面高度和所述膜在所述配线区域中的截面高度之间。

2.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中所述膜在所述中间区域中的台阶部比所述中间区域的宽度的中心更靠近所述有效像素区域。

3.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中所述膜在所述中间区域中的台阶部比所述中间区域的宽度的中心更靠近所述配线区域。

4.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中下述台阶部的平面形状具有呈圆角形状或斜面形状的至少一个角部：

(i)所述膜在所述中间区域中的台阶部；和/或

(ii)在所述配线区域和所述周边区域之间的台阶部。

5.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中，在所述膜上与所述配线区域邻近的邻近区域中，形成有使所述邻近区域具有与所述配线区域大致相同的截面高度的高度调整元件。

6.如权利要求5所述的固态成像装置，

其中所述高度调整元件在所述周边区域和/或所述中间区域中形成在所述邻近区域中。

7.如权利要求5所述的固态成像装置，

其中当所述配线区域的平面形状具有至少一个间隙时，所述高度调整元件被形成为填充所述至少一个间隙。

8.如权利要求5所述的固态成像装置，

其中所述高度调整元件使得所述邻近区域的截面高度与所述配线区域的截面高度大致相同或者大于或等于所述配线区域的截面高度，并且使得包括至少所述配线区域的区域的截面高度大于所述邻近区域的截面高度。

9.如权利要求5所述的固态成像装置，

其中所述高度调整元件的平面形状具有呈圆角形状或斜面形状的至少一个角部。

10.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中截面高度小于所述有效像素区域的截面高度的凹部形成在所述膜的在所述中间区域中与所述有效像素区域具有相同截面高度的区域中。

11.如权利要求1所述的固态成像装置，

其中截面高度与所述有效像素区域相同的凹部形成在所述膜的在所述中间区域中与所述周边区域具有相同截面高度的区域中。

12.如权利要求1所述的固态成像装置，还包括：

在所述有效像素区域中的遮光膜，所述遮光膜具有对应于各所述有效像素的光电转换单元的开口，

其中所述膜在所述有效像素区域中的截面高度小于所述遮光膜的截面高度。