[发明专利]导电膜、制造该导电膜的方法以及包括该导电膜的电子装置有效
| 申请号: | 201480011889.1 | 申请日: | 2014-03-05 | 
| 公开(公告)号: | CN105027230B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 | 
| 发明(设计)人: | 许养旭;文齐庸 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 | 
| 主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00 | 
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 吕俊刚;刘久亮 | 
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电膜 底涂层 导体 导电层 基膜 电子装置 纳米材料 网络结构 制造 | ||
可以提供一种导电膜,该导电膜包括:基膜;形成在该基膜上的底涂层,所述底涂层具有空隙;以及形成在所述底涂层上的导电层。该导电层可以包括导体,该导体包含形成网络结构的纳米材料。
技术领域
实施方式可以涉及导电膜、制造导电膜的方法以及包括该导电膜的电子装置。更具体地,实施方式可以涉及一种具有改进的结构的导电膜、一种制造该导电膜的方法以及一种包括该导电膜的电子装置。
背景技术
包括透明导电薄膜的导电膜可以被不同地应用于诸如平板显示器和触摸面板的电子装置。可以通过在塑料基板上提供透明的并且具有低电阻的透明导电薄膜以及使该透明导电薄膜图案化来形成这样的导电膜。
可以通过真空沉积物质(诸如铟锡氧化物)来生产透明导电薄膜。然而,铟锡氧化物的原材料可能是昂贵的并且诸如真空沉积的方法可能具有低生产率。另外,铟锡氧化物不是柔性的并且因此可能不适合于在柔性电子装置中使用。另外,当使包括铟锡氧化物的透明导电薄膜图案化时,光学特性方面的差异可以存在于具有透明导电薄膜的一部分与不具有透明导电薄膜的一部分之间,并且透明导电薄膜的图案因此可以用用户的肉眼看见。
发明内容
技术问题
实施方式可以提供一种具有高生产率和优良特性的导电膜,以及一种制造该导电膜的方法。
实施方式可以提供一种包括具有优良特性的导电膜的电子装置。
实施方式可以提供一种包括基膜、形成在所述基膜上的底涂层(该底涂层具有空隙)和形成在所述底涂层上的导电层的导电膜。所述导电层可以包括包含形成网络结构的纳米材料的导体。
问题的解决方案
电子装置可以包括所述导电膜。
可以提供一种制造导电膜的方法。所述方法可以包括以下步骤:制备基膜;在所述基膜上形成包括可固化树脂和填料粒子的底涂层;在所述底涂层上形成包括包含形成网络结构的纳米材料的导体的导电层;以及使所述导电层图案化。所述导电层的图案化可以包括以下步骤:去除所述导电膜的所述填料粒子的至少一部分以在与非导电区域对应的区域中形成空隙。
附图说明
可以参照附图详细地描述布置和实施方式,在附图中相同的附图标记指代相同的元件,并且其中:
图1是根据示例实施方式的导电膜的截面图;
图2A至图2C是用于制造根据示例实施方式的导电膜的方法的截面图;
图3是示出了在导电膜中提供导体和填料粒子的导电区域的图像;
图4是示出了与其中提供导体和填料粒子的导电区域对应的区域以及与其中空隙形成在导电膜中的非导电区域对应的区域的图像;
图5是示出了与在导电膜中提供导体和填料粒子的导电区域对应的区域的图像;
图6是示出了与其中空隙形成在导电膜中的非导电区域对应的区域的图像;
图7是包括根据示例实施方式的导电膜的触摸面板的示意截面图;以及
图8是在包括导电膜的触摸面板中分别构成第一电极和第二电极的第一导电层和第二导电层的平面形状的平面图。
具体实施方式
现在可以详细地参照优选实施方式,其示例被例示在附图中。布置和实施方式不限于本文所讨论的实施方式并且可以被修改成各种形式。
在附图中,可能不例示与描述无关的部分以得到清楚且简要的描述,并且相同的附图标记可以在本说明书中自始至终用来指代相同或相当类似的部分。
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