[发明专利]涂布膜

说明书

技术领域

本发明涉及涂布膜，详细而言，涉及将聚酯膜作为基材、例如暴露于高温后低聚物的析出也少的涂布膜。

背景技术

聚酯膜的透明性、尺寸稳定性、机械特性、耐热性、电特性等优异，可以在各种领域中使用。

特别而言，近年来，在触摸屏等中的使用增加，作为透明导电性叠层体的基材，代替玻璃而使用的情况增加。作为这样的透明导电性叠层体，有时将聚酯膜作为基材，在其上直接或隔着增粘涂层，以溅射形成ITO(氧化铟锡)膜。这样的双轴拉伸聚酯膜通常被加热加工。

例如，有为了低热收缩化，在150℃放置1小时(专利文献1)；为了达到ITO的结晶化，在150℃进行热处理(专利文献2)等的处理。

但是，作为聚酯膜的问题，暴露于这样的高温长时间的处理时，膜中含有的低聚物(聚酯的低分子量成分、特别是酯环状三聚体)在膜表面析出、结晶化，由此引起膜外观的白化导致的视认性降低、后加工的缺陷、工序内或部件的污染等。因此，将聚酯膜作为基材的透明导电性叠层体的特性不能说是充分的。

进一步而言，作为防止上述的低聚物析出的对策，例如提出了在聚酯膜上设置由有机硅树脂和异氰酸酯系树脂的交联体构成的固化性树脂层的方案(专利文献3)。但是，该固化性树脂层通过热固化而形成，因此为了异氰酸酯系树脂的封端化剂的解离需要高温处理，在加工中存在容易产生卷曲或松弛的状况，操作中需要注意。

因此，在谋求涂布层的低聚物析出量的减少对策时，处于需要具有比现有技术更加良好的耐热性、并且需要涂布层自身的低聚物析出防止性能良好的状况。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007－42473号公报

专利文献2：日本特开2007－200823号公报

专利文献3：日本特开2007－320144号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于上述事实而完成的发明，其解决课题在于：提供作为光学部件用的产品加工后，光学特性、视认性优异的光学用涂布膜。具体而言，提供具有以下特性的光学用涂布膜，例如经过150℃条件下的长时间的热处理、高张力在这样的条件下的溅射工序、在高温高湿气氛下的耐久性试验等严酷的条件下的工序后，也能够将膜雾度的上升抑制得小，作为光学部件用的产品加工后，光学特性、视认性优异。

用于解决课题的方法

本发明的发明人关于上述课题进行了精心研究，结果发现利用特定构成的聚酯膜能够解决上述课题，由此完成本发明。

即，本发明的主旨在于提供一种涂布膜，其特征在于：在酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的单层聚酯膜或具有酯环状三聚体含量为0.7重量％以下的聚酯表层的多层聚酯膜的至少一个面，具有由含有多元醛系化合物的涂布液形成的涂布层。

发明效果

根据本发明，为了更加有效地防止低聚物析出，通过组合酯环状三聚体含量少的聚酯层和特定的涂布层的形成，能够得到酯环状三聚体的析出极少的效果。另外，即使进行高温长时间的处理，也能够抑制从表面析出低聚物，因此能够得到没有雾度的上升和异物的产生的、优异外观的产品，其工业利用价值高。

具体实施方式

本发明的涂布膜的基材膜由聚酯构成。聚酯通过使对苯二甲酸、间苯二甲酸、2,6－萘二羧酸、己二酸、癸二酸、4,4′－二苯基二羧酸、1,4－环己基二羧酸这样的二羧酸或其酯与乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、丙二醇、1,4－丁二醇、新戊二醇、1,4－环己二醇这样的二醇熔融缩聚而制造。由这样的酸成分和二醇成分构成的聚酯能够使用任意的通常进行的方法而制造。

例如，可以采用如下方法：首先，使芳香族二羧酸的低级烷基酯与二醇之间进行酯交换反应，或者使芳香族二羧酸与二醇直接进行酯化，实质上形成芳香族二羧酸的双二醇酯、或其低聚物，接着，将其在减压下进行加热，使之缩聚。根据其目的，也可以共聚脂肪族二羧酸。

作为聚酯，代表性地可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸－1,4－环己二甲醇酯等，除此以外，也可以是上述的酸成分和二醇成分共聚而得到的聚酯，根据需要可以含有其它的成分和添加剂。