[发明专利]非晶层极紫外线光刻坯料及用于制造该坯料的方法与光刻系统

权利要求书

1.一种集成极紫外线坯料生产系统，所述系统包含：

真空腔室，所述真空腔室用于将基板置放于真空中；

第一沉积系统，所述第一沉积系统用于沉积多层堆叠物，而不将所述基板从所述真空移除，所述多层堆叠物反射极紫外线光；

处理系统，所述处理系统用于处理所述多层堆叠物上的层，所述层待沉积作为非晶金属层；以及

第二沉积系统，所述第二沉积系统用于沉积额外层，以形成极紫外线掩模坯料，所述额外层包含覆盖层和位于所述覆盖层之上的吸收剂层。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述处理系统包括所述非晶金属层的合金沉积。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述处理系统提供气体，以破坏所述非晶金属层的晶态结构。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述处理系统冷却所述多层堆叠物，以抑制所述非晶金属层的晶粒生长。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述沉积系统包括用于溅射所述多层堆叠物的磁控管。

6.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包含第三沉积系统，所述第三沉积系统用于沉积额外层，以形成极紫外线镜。

7.一种极紫外线坯料，所述极紫外线坯料包含：

基板；

多层堆叠物，所述多层堆叠物具有位于所述基板之上的非晶金属层，所述多层堆叠物反射极紫外线光；

覆盖层，所述覆盖层位于所述多层堆叠物之上；以及

吸收剂层，所述吸收剂层吸收极紫外线光，所述吸收剂层位于所述覆盖层之上。

8.如权利要求7所述的坯料，其中所述非晶金属层为合金非晶金属层。

9.如权利要求7所述的坯料，其中所述非晶金属层与硼、氮或碳合金。

10.如权利要求7所述的坯料，其中所述非晶金属层为非晶钼。

11.如权利要求7所述的坯料，其中所述非晶金属层具有破坏的晶态结构。

12.如权利要求7所述的坯料，其中所述非晶金属层已抑制晶粒生长。

13.如权利要求7所述的坯料，其中所述多层堆叠物形成极紫外线掩模坯料。

14.如权利要求7所述的坯料，其中所述多层堆叠物形成极紫外线镜。

15.如权利要求7所述的坯料，其中所述基板为超低热膨胀材料。

16.如权利要求7所述的坯料，其中所述基板为玻璃。

17.一种制造极紫外线坯料的方法，所述方法包含以下步骤：

提供基板；

在所述基板之上形成具有非晶金属层的多层堆叠物，所述多层堆叠物形成为反射极紫外线光；

在所述多层堆叠物之上形成覆盖层；以及

在所述覆盖层之上形成用于吸收极紫外线光的吸收剂层。

18.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤形成合金非晶金属层。

19.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤通过使用合金溅射所述金属来沉积所述非晶金属层。

20.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤通过在冷却所述基板的同时溅射来沉积所述非晶金属层。

21.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤形成与硼、氮或碳合金的所述非晶金属层。

22.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤形成非晶钼的所述非晶金属层。

23.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤形成破坏晶态结构的所述非晶金属层。

24.如权利要求17所述的方法，其中形成具有所述非晶金属层的所述多层堆叠物的步骤形成已抑制晶粒生长的所述非晶金属层。

25.如权利要求17所述的方法，其中形成所述多层堆叠物的步骤形成极紫外线掩模坯料。