[发明专利]离散源掩模优化

权利要求书

1.一种计算机执行方法，用于改善使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像在衬底上的光刻过程，所述方法包括：

提供期望的光瞳轮廓；

基于期望的光瞳轮廓计算离散的光瞳轮廓；

选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变；以及

将所选择的离散的改变应用于所述离散的光瞳轮廓。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述期望的光瞳轮廓为来自优化的光瞳轮廓或经验的光瞳轮廓。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述离散的光瞳轮廓能够由光刻投影设备的照射源的硬件取得。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述离散的光瞳轮廓包括在光瞳面上多个空间离散位置处的光强。

5.根据权利要求1所述的方法，还包括优化与产生离散的光瞳轮廓中的离散的改变的源硬件不相关的设计变量。

6.根据权利要求1所述的方法，还包括迭代地执行选择对离散的光瞳轮廓的离散的改变的步骤和将离散的改变应用于所述离散的光瞳轮廓的步骤。

7.根据权利要求3所述的方法，其中所述照射源的硬件包括反射镜阵列。

8.根据权利要求1所述的方法，其中选择离散的改变的步骤包括计算成本函数的多个梯度，所述多个梯度中的每个梯度相对于在光瞳面上的多个空间离散位置中的一个位置处的光强。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述多个空间离散位置为能够通过调节光刻投影设备的照射源的硬件来改变光强的位置。

10.根据权利要求1所述的方法，其中选择离散的改变的步骤包括从多个离散的改变中选择该离散的改变。

11.根据权利要求10所述的方法，其中在所述多个离散的改变中的至少一个离散的改变为在所述离散的光瞳轮廓的一个或更多个离散位置处的光强的离散的改变。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述多个离散的改变排他地包括保持所述离散的光瞳轮廓中的总光强的那些离散的改变。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述多个离散的改变排他地包括降低所述离散的光瞳轮廓的填充比率的那些离散的改变。

14.根据权利要求1所述的方法，其中所述期望的光瞳轮廓为光刻投影设备的照射源的光瞳轮廓，或者其中所述期望的光瞳轮廓为光刻投影设备的投影光学装置的光瞳轮廓。

15.一种计算机程序产品，包括：在其上记录了指令的计算机可读介质，所述指令在被计算机执行时实施根据上述权利要求中的任一项所述的方法。