[发明专利]EUV光刻装置的照明系统及其分面反射镜

权利要求书

1.EUV光刻装置(1)的照明系统(10)，包含：

第一分面反射镜(13)，具有反射EUV辐射(4)的分面元件(13a-d)，

第二分面反射镜(14)，具有将由所述第一分面反射镜(13)反射的EUV辐射(4)反射至照明场(BF)的分面元件(14a-d)，

其特征在于，

所述第二分面反射镜(14)的分面元件(14a,c；14b,d)中的至少一个设计为衍射光学元件，用于仅照明所述照明场(BF)的一部分(T1；T2)。

2.根据权利要求1的照明系统，其中，所述第二分面反射镜的分面元件(14a,c)设计为照明所述照明场(BF)的包含至少两个非毗邻局部区域(A1,A2)的部分(T1)。

3.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第二分面反射镜(14)具有多个第一分面元件(14a,c)和多个第二分面元件(14b,d)，所述多个第一分面元件照明所述照明场(BF)的第一部分(T1)，所述多个第二分面元件照明所述照明场(BF)的第二部分(T2)，所述第二部分与所述第一部分不同。

4.根据权利要求3的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)的分面元件(13a-d)能够在照明所述第二分面反射镜(14)的第一分面元件(14a,c)的第一位置和照明所述第二分面反射镜(14)的第二分面元件(14b,d)的第二位置之间转换。

5.根据权利要求3的照明系统，其中，所述第二分面反射镜(14)的分面元件(14a-d)形成栅格布置，其中第一分面元件(14a,c)与第二分面元件(14b,d)交替。

6.根据权利要求4的照明系统，其中，所述第二分面反射镜(14)的分面元件(14a-d)形成栅格布置，其中第一分面元件(14a,c)与第二分面元件(14b,d)交替。

7.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件中的至少一个设计为衍射光学元件，用于将EUV辐射(4)偏转至辐射传感器(25)。

8.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的分面元件中的至少一个具有平面形式。

9.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的至少一个衍射分面元件具有基板(26)和多层涂层(28)，所述基板具有轮廓化表面(26a)，所述多层涂层反射EUV辐射(4)并施加至所述基板(6)。

10.根据权利要求9的照明系统，其中，所述基板(6)具有多阶梯表面轮廓(27b,27c)。

11.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)或所述第二分面反射镜(14)的至少一个衍射分面元件具有光栅结构(27a-c)，所述光栅结构(27a-c)具有所述EUV辐射(4)的波长(λB)的数量级的横向范围(D)。

12.根据权利要求1或2的照明系统，其中，所述第一分面反射镜(13)的分面元件(13a-d)中的至少一个设计为衍射EUV辐射(4)的衍射光学元件。

13.EUV光刻装置(1)，包含根据上述权利要求任一项的照明系统(10)。