[发明专利]形成用于电容式触摸传感器的电极结构的方法有效

专利信息
申请号: 201480009362.5 申请日: 2014-02-14
公开(公告)号: CN105073332B 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 卡米洛·普列托锐奥;陈旭钧 申请(专利权)人: 万佳雷射有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/40;B23K26/06;G06F3/044
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 孟桂超,张颖玲
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 形成 用于 电容 触摸 传感器 电极 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种使用脉冲式固体激光器通过激光直写刻划工艺在透明导电层中形成用于电容式触摸传感器的电极结构的方法,其中,所述透明导电层位于透明非导电层上,所述透明非导电层位于彩色滤光片层上,所述彩色滤光片层位于基板上,所述基板处的激光波长、脉冲长度和光束剖面选择如下:

i)在257nm到266nm范围内的波长

ii)在50fs到50ns范围内的脉冲长度

iii)所述基板处的光束剖面在整个光束上具有近均匀的功率密度或者能量密度,功率密度或者能量密度的均匀性小于10%,其中均匀性由最大值Emax和最小值Emin定义为(Emax–Emin)/(Emax+Emin),

使得在所述透明导电层中形成凹槽,以使每个凹槽的相对两侧上的所述透明导电层的区域电隔离,同时基本上不损害所述透明导电层之下的所述透明非导电层或者所述彩色滤光片层。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述脉冲长度为50ps或更小。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述激光波长为257.5nm或者266nm。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,Emax不超过1.3×Eabl,其中Eabl为用于烧蚀所述透明导电层的阈值能量密度。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述电极结构包括发射电极结构和接收电极结构。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述电容式触摸传感器包括:透明基板、在所述透明基板上设置的所述彩色滤光片层、在所述彩色滤光片层之上形成透明平整化层的所述非导电层、以及在所述平整化层之上设置的所述透明导电层。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述电容式触摸传感器被用于形成组件的一部分,所述组件具有位于所述电容式触摸传感器之上的透明盖和位于所述电容式触摸传感器下面的显示模块。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,所述激光束被布置成在所述透明导电层的第一子区域之上进行扫描,然后步进到所述透明导电层的另一子区域并且在该区域之上进行扫描,重复这种处理直到所需的区域都被扫描完。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,待形成的所述电容式触摸传感器包括多个所述子区域。

10.一种被布置成实现根据任一前述权利要求所述的方法的装置,所述装置包括脉冲式激光源,所述脉冲式激光源被布置成在透明导电层中对用于电容式触摸传感器的电极结构进行激光直写刻划,其中,所述透明导电层位于透明非导电层上,所述透明非导电层位于彩色滤光片层上,所述彩色滤光片层位于基板上,所述脉冲式激光源被布置成在所述基板处提供如下的波长、脉冲长度和光束剖面:

i)在257nm到266nm范围内的波长

ii)在50fs到50ns范围内的脉冲长度

iii)所述基板处的光束剖面在整个光束上具有近均匀的功率密度或者能量密度,功率密度或者能量密度的均匀性小于10%,其中均匀性由最大值Emax与最小值Emin定义为(Emax–Emin)/(Emax+Emin)。

11.根据权利要求10所述的装置,其中,所述脉冲长度为50ps或更小。

12.根据权利要求10所述的装置,其中,所述脉冲式激光源被布置成在所述透明导电层之上扫描以便在所述透明导电层中形成一系列凹槽。

13.根据权利要求10所述的装置,所述装置包括镜子和平场聚焦透镜,所述镜子被布置成实现所述扫描,所述平场聚焦透镜用于将所述激光束聚焦到所述透明导电层上。

14.根据权利要求11-13中任一项所述的装置,所述装置被布置成实现步进和扫描处理以在所述透明导电层的多个子区域之上进行激光扫描。

15.根据权利要求11-13中任一项所述的装置,其中,所述激光束被布置成穿过具有小于所述激光束的直径的孔,以使所述激光束具有基本上平顶的剖面。

16.根据权利要求11-13中任一项所述的装置,其中,所述激光束穿过衍射光学元件,所述衍射光学元件被布置成使所述激光束具有基本上平顶的剖面。

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