[发明专利]用于清洁基板的方法和装置

权利要求书

1.一种基板清洁装置，所述基板清洁装置包括：

基板支撑构件，用以支撑基板，所述基板具有第一侧面和污染的第二侧面；

液态二氧化碳源；

气态二氧化碳源；和

一或更多个喷嘴，所述一或更多个喷嘴耦合至所述液态二氧化碳源和所述气态二氧化碳源，其中所述一或更多个喷嘴配置为接收液态二氧化碳及排放来自所述液态二氧化碳源的固态及气态二氧化碳的第一混合物至所述基板的所述第二侧面，并且接收气态二氧化碳及排放来自所述气态二氧化碳源的固态及气态二氧化碳的第二混合物至所述基板的所述第二侧面。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述一或更多个喷嘴包括：

第一喷嘴，所述第一喷嘴耦合至所述液态二氧化碳源；和

第二喷嘴，所述第二喷嘴耦合至所述气态二氧化碳源。

3.如权利要求2所述的装置，所述装置进一步包括形成第一喷嘴阵列的多个第一喷嘴和形成第二喷嘴阵列的多个第二喷嘴，所述多个第一喷嘴和多个第二喷嘴耦合至可移动臂。

4.如权利要求3所述的装置，其中所述可移动臂配置为从所述基板的中心移动所述第一喷嘴阵列和所述第二喷嘴阵列至所述基板的外边缘。

5.如权利要求1至4中任一项所述的装置，所述装置进一步包括具有第一空间的处理腔室，其中所述基板支撑构件设置在所述第一空间内部。

6.如权利要求1至4中任一项所述的装置，其中所述基板支撑构件配置为旋转所述基板同时暴露所述基板的所述第二侧面至所述一或更多个喷嘴。

7.如权利要求1至4中任一项所述的装置，所述装置进一步包括设置在所述基板下方的热源，以加热所述基板的所述第二侧面。

8.如权利要求1至4中任一项所述的装置，所述装置进一步包括第一气源，以提供第一气体至所述基板的所述第二侧面。

9.一种从设置在基板支撑构件的顶部上的基板清洁污染物的方法，其中所述基板具有第一侧面和第二侧面，所述方法包括以下步骤：

(a)引导来自液态二氧化碳源的固态及气态二氧化碳的第一混合物至所述基板的所述第二侧面，以从所述基板的所述第二侧面移除一或更多种污染物，其中所述第一混合物留下第一残余物；和

(b)引导来自气态二氧化碳源的固态和气态二氧化碳的第二混合物至所述基板的所述第二侧面，以移除至少一些所述第一残余物，其中所述第一混合物包含比所述第二混合物更大量的固态二氧化碳。

10.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括以下步骤：

旋转所述基板同时引导所述第一混合物和所述第二混合物至所述基板的所述第二侧面；

经由多个第一喷嘴分配所述第一混合物和第二混合物的步骤或经由多个第一喷嘴分配所述第一混合物和经由多个第二喷嘴分配所述第二混合物的步骤中的至少一者，其中所述多个第一喷嘴和所述多个第二喷嘴耦合至臂；和

致动所述臂从所述旋转基板的中心移动至所述旋转基板的外边缘，同时分配所述第一混合物和所述第二混合物。

11.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括以下步骤：

在引导所述第一混合物和第二混合物至所述基板的所述第二侧面之前加热所述基板的所述第二侧面；或

在施加所述第一混合物和第二混合物至所述基板的所述第二侧面期间朝向所述基板的所述第二侧面流动第一气体，其中所述第一气体为空气、过滤的空气、离子化的空气或氮气中的至少一者。

12.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括以下步骤：

重复(b)以从所述基板的所述第二侧面移除至少一些所述第一残余物的剩余量。