[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201480006527.3 | 申请日： | 2014-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN104969094B | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 岸敦史;上野友德;仓本浩贵 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;B32B7/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 及其 制造 方法 | ||
1.一种防反射膜，其是具有基材和自所述基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层的防反射膜，其中，
在使用波长580nm下的振幅反射率图的复数平面进行所述防反射膜的反射特性的光学设计时，按照使连结所述高折射率层的层叠轨迹的起点A与终点B的线段AB与所述振幅反射率图的实轴交叉、且所述线段AB与所述实轴所成的角度θ成为65°≤θ≤90°的方式，对所述基材、所述中折射率层、所述高折射率层及所述低折射率层的折射率及/或厚度进行设计。
2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，在使用所述振幅反射率图的复数平面进行所述防反射膜的反射特性的光学设计时，按照遍及550nm～700nm的波长范围内的任一光学设计中所述线段AB均与所述实轴交叉的方式，对所述基材、所述中折射率层、所述高折射率层及所述低折射率层的折射率及/或厚度进行设计。
3.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中折射率层为单一层。
4.根据权利要求3所述的防反射膜，其中，所述高折射率层的厚度为50nm以下。
5.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述中折射率层具有自所述基材侧起依次配置的另外的高折射率层与另外的低折射率层的层叠结构。
6.一种带有防反射膜的偏振片，其包含权利要求1所述的防反射膜。
7.一种图像显示装置，其包含权利要求1所述的防反射膜或权利要求6 所述的带有防反射膜的偏振片。
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