[发明专利]用于获得提供有涂层的基材的方法

说明书

本发明涉及提供有涂层的基材的热处理。

使用各种加热设备，如燃烧器、等离子炬或激光的快速热处理涂层的方法从申请WO2008/096089是已知的。

本发明的目的是通过使它更灵活甚至更好适合于工业背景来改善这种类型方法。

为此目的，本发明一个主题是用于获得在它的至少一个面上提供有涂层的基材的方法，其中所述涂层被沉积在所述基材上，然后对所述涂层使用至少一个加热设备进行热处理，该基材在该加热设备的对面行进，该方法使得，在热处理之前，对行进中的基材实施所述涂层的至少一种性质的至少一种测量并且根据预先获得的测量来调节该热处理的条件。

优选地，对该涂层使用至少两个可以彼此独立地进行控制的加热设备(该基材在该加热设备的对面行进)进行热处理，每个加热设备处理所述涂层的不同区域，该方法进一步地使得，在该热处理之前，对行进中的基材并对于每个所述区域实施所述涂层的至少一种性质的至少一种测量，并且每个区域的热处理条件根据预先对于所讨论的区域获得的测量进行调节。

本发明的另一主题是用于热处理沉积在基材上的涂层的装置，包含至少一个加热设备，基材可以在该加热设备的对面行进，至少一种在该或者每个加热设备的上游设置的用于测量所述涂层的至少一种性质的设备，和用于根据预先获得的测量来调节热处理条件的设备。

优选地，该装置包含至少两个可以彼此独立地进行控制的加热设备(该基材可以在该加热设备的对面行进，每个加热设备可以处理所述涂层的不同区域)、用于在每个所述区域中的所述涂层的至少一种性质的局部测量的设备(其设置在该加热设备的上游)和用于根据预先对于所讨论的区域获得的测量来调节每个区域的热处理条件的设备。

在行进中的基材上实施的测量和热处理步骤有利地在线地，即在相同的工业生产线上，在根据本发明的装置内进行实施。

根据该层的特征控制该热处理的可能性允许该方法更灵活的和/或提高在处理之后的涂层的均匀性。

而且，多个加热设备(每个处理该涂层一部分)的使用和独立地根据待处理的涂层部分的局部特征控制它们的可能性具有许多优点。

特别地，对于大尺寸化基材，如，例如6*3.3m²的玻璃板，使用数个加热设备代替单一加热设备允许促进该加热设备的和连接的装置(例如当加热设备是激光器或者微波源时的聚焦装置，如在下文中更详细看见的)的设计、制备、调节和维持。数个彼此独立的设备的使用也允许调节该处理以适应不同尺寸的基材或者不同尺寸的待处理区域，例如在后者情况下，当该初始基材的仅仅一部分必须进行使用并且将随后进行切割时。

独立设备的选择和控制它们以根据该层的局部特征的调节该热处理条件的可能性使它能够适合于其均匀性不是完美的涂层，其经常地是这种情况，尤其在大尺寸的基材的情况下，如在玻璃工业中使用的6*3m²基材。实际上在如此大表面的上难以获得完美均匀的涂层。例如，在通过磁控管阴极溅射方法沉积涂层的情况下，该阴极可以不均匀地消耗。沉积的不均匀性，特别地当它体现为吸收的不均匀性时，可以由于热处理，特别地由于激光而被放大。

该或者每个加热设备有利地选自激光器，等离子炬，微波源，燃烧器和感应器。

激光器通常由包含一个或多个激光源以及成形并重定向的光学器件的组件组成。该激光器优选地呈线形状，在下文中称为激光线

该激光源典型地是激光二极管或者纤维或者盘形激光器。激光二极管允许经济地实现相对于电源功率的高功率密度(对于小的尺寸大小)。纤维激光器的尺寸大小是甚至更小的，并且获得的线功率密度可以是甚至更高的，对于然而是更大的成本而言。

产生自激光源的辐射可以是连续的或者脉冲的，优选连续的。当该辐射是脉冲的时候，重复频率有利地是至少10kHz，特别地15kHz，甚至20kHz，以便与所使用的高行进速度是可相容的。

该或者每根激光线的辐射的波长优选在800至1100nm，特别地800至1000nm范围内。在选自808nm、880nm、915nm、940nm或者980nm的波长发射的高功率激光二极管已经证明是特别适合的。

该成形和重定向光学器件优选包含透镜和反射镜，并且用作为用于使辐射定位、均匀化和聚焦的设备。