[发明专利]滤色器用颜料组合物和滤色器在审
| 申请号: | 201480004247.9 | 申请日: | 2014-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN104903757A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
| 发明(设计)人: | 浅见亮介;清都育郎 | 申请(专利权)人: | DIC株式会社 |
| 主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C09B67/20;C09B67/22;C09B67/46 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鲜英;钟海胜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 器用 颜料 组合 滤色器 | ||
技术领域
本发明涉及滤色器用颜料组合物和使用该组合物的滤色器,其是用于形成彩色液晶显示装置的滤色器的滤色器用颜料组合物和滤色器,通过与特定的有机色素衍生物共同进行微细化处理,所述滤色器用颜料组合物兼顾微细化和分散稳定性,遮光性比以往更高。
背景技术
在液晶显示装置领域,导入了将滤色器基板和TFT阵列基板一体化而成的阵列上的滤色器(Color Filter On Array,COA)的液晶面板备受瞩目。若使用COA,则不需要在使用上述两种基板时进行精密的位置对齐,同时,能够使滤色器的红、蓝、绿各像素微细化至极限,因此,能够实现液晶面板的高精细化。
对于这样的COA用的树脂黑矩阵而言,需要高的遮光性,因此要求厚膜化。可是,随着树脂黑矩阵的膜厚的增大,曝光部分的相对于膜厚方向的交联密度之差增大,因此难以实现高灵敏度化并获得形状良好的黑色图案。此外,作为高遮光化的方法,正在尝试大量使用遮光材料,但是,当使用碳等导电性材料作为遮光材料时,存在黑矩阵的相对介电常数变高、体积电阻降低、从而使显示装置的可靠性降低的问题。
为了消除这样的缺点,最近正在积极尝试使用黑色有机颜料组合物(有机黑矩阵)作为遮光材料来代替炭黑,该黑色有机颜料组合物是使具有色彩的有机颜料以成为黑色的方式进行混合而得到。
专利文献1中,虽然关于在某特定波长区域中规定了最高光透射率的树脂黑矩阵,记载了通过含有某种特定有机颜料而形成的遮光性感光性树脂组合物,但与炭黑相比遮光性不充分。专利文献2中,虽然记载了遮光幕形成用着色树脂组合物,该遮光幕形成用着色树脂组合物含有由在可见光区域具有光透射性的有机颜料中的黄色颜料、蓝色颜料和紫色颜料的组合或黄色颜料、红色颜料和蓝色颜料的组合构成的通过拟黑色化而成的混色有机颜料,但光学浓度(OD)低,遮光性不充分。专利文献3中,提出了含有粒径为特定的比表面积以下的蓝色、黄色、红色各有机颜料的黑矩阵用颜料组合物,但同样OD值低,无法获得充分的遮光性。如此,虽然已提出若干通过颜料的混合而进行的发明,但仍存在无法获得如下那样的滤色器的问题:该滤色器包含的滤色器黑矩阵为高绝缘性、低介电常数并且能够满足高光学浓度。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-69822号公报
专利文献2:日本特开平9-302265号公报
专利文献3:日本特开2012-32697号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明所要解决的课题在于,提供一种微细且分散稳定性良好、并且可获得高光学浓度的滤色器用有机颜料组合物,以及含有该组合物的滤色器。
用于解决课题的方法
本发明人鉴于上述实际情况进行了深入研究,结果发现,通过将具有特定化学结构的有机颜料和含有邻苯二甲酰亚胺基的有机色素衍生物进行微细化处理,能够获得即使为微细的粒子分散稳定性也高、遮光性高的滤色器,从而完成了本发明。
本发明提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,相对于含有下述通式(1)和通式(2)的化学结构的有机颜料每100份,含有1~15份的含有邻苯二甲酰亚胺烷基的有机色素衍生物,并且颜料的一次粒径为20nm~100nm。
[化1]
(式中,R1~R3各自为氢原子、卤原子、碳原子数1~5的烷基、碳原子数1~5的烯基。)
[化2]
此外,本发明提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,上述有机颜料为选自C.I.颜料橙36、60、62、64、72中的至少一个的橙色颜料。
此外,本发明提供一种滤色器用有机颜料组合物,其特征在于,上述有机色素衍生物为选自邻苯二甲酰亚胺烷基化喹吖啶酮或邻苯二甲酰亚胺烷基化酞菁中的至少一个的有机色素衍生物。
进一步,本发明提供一种滤色器,其特征在于,含有上面记载的滤色器用有机颜料组合物。
发明的效果
包含本发明的滤色器用有机颜料组合物和一并使用的其他蓝色和红色等有机颜料组分的黑矩阵实现了分散稳定性优异并且OD值高、遮光性优异的特别显著的技术效果。
具体实施方式
以下,对本发明的详细情况进行说明。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于DIC株式会社,未经DIC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480004247.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





