[发明专利]具有三维结构的金属图形的制造方法有效
| 申请号: | 201480003201.5 | 申请日: | 2014-08-01 |
| 公开(公告)号: | CN104812571B | 公开(公告)日: | 2016-10-19 |
| 发明(设计)人: | 郑镇美;金在镇;朴正岵;辛富建 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
| 主分类号: | B32B15/04 | 分类号: | B32B15/04;B41M5/00 |
| 代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李静;黄丽娟 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 三维 结构 金属 图形 制造 方法 | ||
1.一种制造具有三维(3D)结构的金属图形的方法,包括:
在接受器上,面向该接受器设置用于转移金属图形的薄膜的金属层,所述薄膜依次包括光热转换层、表面能为25mN/m以下的中间层和金属层;以及
用光照射所述光热转换层。
2.如权利要求1所述的方法,其中,所述接受器为柔性基板。
3.如权利要求1所述的方法,其中,所述光热转换层包含染料、炭黑、金属、金属氧化物或者金属硫化物。
4.如权利要求3所述的方法,其中,所述金属硫化物为Al、Bi、Sn、In、Zn、Ti、Cr、Mo、W、Co、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zr或Te的硫化物。
5.如权利要求3所述的方法,其中,所述光热转换层为包含染料、炭黑、金属、金属氧化物或者金属硫化物的树脂组合物层。
6.如权利要求1所述的方法,其中,所述中间层包含氟类化合物或者硅类化合物。
7.如权利要求1所述的方法,其中,所述中间层的厚度为0.5μm到5μm。
8.如权利要求1所述的方法,其中,所述中间层的厚度为5nm到100nm。
9.如权利要求1所述的方法,其中,所述金属层包含铝、铜、银、金、铁、铂、钨或者它们的合金。
10.如权利要求1所述的方法,其中,所述用于转移金属图形的薄膜进一步包括:
阻挡层,该阻挡层位于所述光热转换层和所述中间层之间。
11.如权利要求10所述的方法,其中,所述阻挡层包含热塑性材料或者热固性材料。
12.如权利要求10所述的方法,其中,所述阻挡层包含丙烯酰基类、氨基甲酸酯类、酯类或者环氧类有机粘合剂。
13.如权利要求1所述的方法,其中,所述用光照射光热转换层是通过用连续波(CW)模式的激光照射所述光热转换层来进行的。
14.如权利要求1所述的方法,其中,所述具有凹凸结构的金属层在用光照射时转移到所述接受器上。
15.如权利要求14所述的方法,其中,所转移的金属层为具有凹凸结构的连续金属层。
16.一种金属图形层压板,其使用权利要求1定义的方法制造,并且包括柔性基板,以及在所述柔性基板上形成的具有凹凸结构的连续金属层。
17.一种包括权利要求16定义的金属图形层压板的电极层。
18.一种包括权利要求16定义的金属图形层压板的金属互连线。
19.一种包括权利要求17定义的电极层的有机电子器件。
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