[发明专利]多极化基片集成波导天线有效

专利信息
申请号: 201480000717.4 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN105264714B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 程钰间;陈一 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01Q11/00 分类号: H01Q11/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 刘芳
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多极化 集成 波导 天线
【说明书】:

技术领域

本发明实施例涉及通信技术,尤其涉及一种多极化基片集成波导天线。

背景技术

在各种无线通信和雷达系统中,信息的发射与接受均依赖于天线。随着大容量、多功能、超宽带综合信息系统的迅猛发展,同一平台上搭载的信息数量大大增加,需要的天线数目也相应地增多。这与要求天线降低综合信息系统整体成本、减轻重量、减小平台雷达散射截面、实现良好电磁兼容特性等的发展趋势相矛盾。多极化天线的出现可以有效地解决这一矛盾,其可以根据实际应用的需求动态地改变其工作的极化方式,从而提供极化分集以对抗多径衰落和增加信道容量。

现有的定向耦合馈电低轮廓背腔圆极化天线(专利CN200710156825.2)由于电路结构和尺寸的原因,需采用微带线馈电,导致高频应用时馈电效率下降。

发明内容

本发明实施例提供一种多极化基片集成波导天线,以解决采用微带线馈电导致高频应用时馈电效率下降的问题。

第一方面,本发明实施例提供一种多极化基片集成波导天线,所述天线为多层结构,从上到下依次包括:第一金属覆铜层、第一介质层、第二金属覆铜层、第二介质层以及第三金属覆铜层,其中,所述第一介质层和所述第二介质层上均设置有金属化通孔,所述第一金属覆铜层和所述第二金属覆铜层上均设置有蚀刻槽。

结合第一方面,在第一方面的第一种可能的实现方式中,所述第一介质层上设置有两列相互平行的第一金属化通孔,所述两列第一金属化通孔连接所述第一金属覆铜层和第二金属覆铜层,在所述第一层介质层中形成第一介质波导;所述第一介质层上形成一排第二金属化通孔,所述第二金属化通孔与所述两列第一金属化通孔均垂直,且与所述两列第一金属化通孔的一端靠近,在所述第一层介质层中形成第一短路面;

所述第二介质层上设置有两列相互平行的第三金属化通孔,所述两列第三金属化通孔连接所述第二金属覆铜层和第三金属覆铜层,在所述第二层介质层中形成第二介质波导;所述第二介质层上形成一排第四金属化通孔,所述第四金属化通孔与所述两列第三金属化通孔均垂直,且与所述两列第三金属化通孔的一端靠近,在所述第二层介质层中形成第二短路面。

结合第一方面的第一种可能的实现方式,在第一方面的第二种可能的实现方式中,所述两列第一金属化通孔之间的第一中心线与所述两列第三金属化通孔之间的第二中心线在竖直方向上不重合。

结合第一方面的第二种可能的实现方式,在第一方面的第三种可能的实现方式中,所述第一金属覆铜层上蚀刻有第一纵向蚀刻槽和横向蚀刻槽,所述第一纵向蚀刻槽与所述第一短路面垂直,且所述第一纵向蚀刻槽位于所述第一中心线在所述第一金属覆铜层上的竖直投影上;所述横向蚀刻槽与所述第一短路面平行;

所述第二金属覆铜层上蚀刻有第二纵向蚀刻槽,所述第二纵向蚀刻槽与所述第二短路面垂直,且所述第二纵向蚀刻槽与所述第一纵向蚀刻槽在所述第二金属覆铜层上的竖直投影重合。

结合第一方面的第三种可能的实现方式,在第一方面的第四种可能的实现方式中,调整所述第一纵向蚀刻槽的长度、所述第二纵向蚀刻槽的长度以及所述第二纵向蚀刻槽的中点与所述第二短路面在所述第二金属覆铜层上的竖直投影之间的距离,以控制第一极化状态的工作频率;

调整所述横向蚀刻槽与所述第一短路面在所述第一金属覆铜层上的垂直投影之间的距离,以控制第二极化状态的工作频率。

结合第一方面的第三种或第四种可能的实现方式,第一方面的第五种可能的实现方式中,所述第一纵向蚀刻槽的长度、所述第二纵向蚀刻槽的长度以及所述横向蚀刻槽的长度为所述第一介质波导的波导波长的二分之一;

所述横向蚀刻槽与所述第一短路面在所述第一金属覆铜层上的垂直投影之间的距离为所述第一介质波导的波导波长的二分之一;

所述第二纵向蚀刻槽的中点与所述第二短路面在所述第二金属覆铜层上的竖直投影之间的距离为所述第二介质波导的波导波长的四分之一。

结合第一方面、第一方面的第一种至第五种中任一种可能的实现方式,第一方面的第六种可能的实现方式中,在所述第一介质波导与所述第二介质波导的输入处接一90度耦合器,以实现双圆极化的工作模式。

结合第一方面的第三种至第五种中任一种可能的实现方式,第一方面的第七种可能的实现方式中,在所述第一金属覆铜层上从下到上依次覆盖第三介质层和第四金属覆铜层,在所述第四金属覆铜层上印制有贴片天线或辐射单元,以通过所述第一纵向蚀刻槽和所述横向蚀刻槽馈电。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480000717.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top