[实用新型]一种用于检验激光直接成像干膜品质的曝光机有效

专利信息
申请号: 201420868020.6 申请日: 2014-12-29
公开(公告)号: CN204440009U 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 郭庆秋;陈东淼;杨明雄 申请(专利权)人: 长兴(广州)光电材料有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州广信知识产权代理有限公司 44261 代理人: 李玉峰
地址: 510530 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 检验 激光 直接 成像 品质 曝光
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及光阻干膜生产技术领域,尤其涉及一种用于检验激光直接成像干膜品质的曝光机。

背景技术

目前,由于激光直接成像曝光机具有高效能、制作线路精密度高、对位简单精准等优点,在HDI、软板和软硬结合的精密线路PCB制作方面的使用明显增加。而且,适用于激光直接成像曝光机的干膜也越来越多地被生产出来。

对于干膜生产企业,生产激光直接成像专用D/F需要用到激光直接成像曝光机以进行产品品质的检验。但由于目前激光直接成像曝光机产量较少,这种曝光机的价格非常昂贵,为此干膜生产企业大多是使用印刷电路板企业使用的、价格相对低廉的普通曝光机进行产品品质的检验。然而,普通曝光机与激光直接成像曝光机之间处在着很大的差异,主要表现在以下二个方面:

(1)激光直接成像曝光机使用的是激光,发射出的紫外光为单波长(波长分别为365nm或405nm);而普通曝光机使用的是汞灯,发射出的紫外光为多波长(波长为250~450nm)。激光直接成像专用D/F对特定波长有一定的吸收,使用普通曝光机会造成激光直接成像专用D/F分辨率变差。

(2)激光直接成像专用D/F的曝光能量较低,一般为10~20mJ/cm2。激光直接成像曝光机的能量如果>20mJ/cm2会影响产能,而在10~20mJ/cm2能量比较稳定,且不影响产能;而普通曝光机能量在10~20mJ/cm2不稳定,很难控制在特定的能量,造成激光直接成像专用D/F的分辨率变差。

由此可见,使用普通曝光机对激光直接成像专用D/F进行品质检测存在着很大的弊端,对于验证所生产的激光直接成像专用D/F是否为合格品、是否可以在专用激光直接成像曝光上使用非常困难,显然无法满足激光直接成像专用D/F的生产发展需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种设计简单、制作方便,易于实现的用于检验激光直接成像干膜品质的曝光机,以满足激光直接成像专用D/F的生产发展需求。

本实用新型的目的通过以下技术方案予以实现:

本实用新型提供的一种用于检验激光直接成像干膜品质的曝光机,为具有框架、铜板的普通曝光机;此外还包括轨道、滤光片、加固板;所述轨道对称设置在框架内的两边,所述加固板设置在滤光片的外围;所述加固板的上端和下端与轨道对应、且活动插设在轨道内,所述滤光片的位置与铜板对应。

本实用新型采用滤光片改进普通曝光机光线波长,将多波长的紫外光转化使之以365nm或405nm单波长输出,以适用于激光直接成像专用干膜的检验。

进一步地,本实用新型还包括减光片,所述减光片叠加在滤光片上,以便根据需要降低紫外光能量。

上述方案中,本实用新型所述轨道的末端设有限位块,以稳定滤光片/加固板的位置。

本实用新型具有以下有益效果:

(1)本实用新型通过简单设计改进即可实现不同波长输出,加工和制作方便,易于实现,适用于不同种类激光直接成像干膜的使用。

(2)本实用新型便于更换滤光片,可根据实际需要选择不同波长的滤光片或叠加不同种类的减光片,从而达到改变波长和能量的效果。

附图说明

下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步的详细描述:

图1是本实用新型实施例的结构示意图;

图2是图1的A-A剖视图。

图中:框架1,铜板2,轨道3,滤光板4,加固板5,限位块6,LDI干膜7

具体实施方式

图1和图2所示为本实用新型一种用于检验激光直接成像干膜品质的曝光机的实施例,如图1所示,为具有框架1、铜板2的普通曝光机,此外还包括轨道3、滤光板4、加固板5。

轨道3对称设置在框架1内的两边,轨道3的末端设有限位块6(见图2,或末端为封闭式)。加固板5设置在滤光片4的外围,加固板5的上端和下端与轨道3对应、且活动插设在轨道3内。滤光片4的位置与铜板2对应。

此外,可根据实际需要选择不同波长的滤光片,或叠加不同种类的减光片使用以达到改变波长和能量的效果。

如图2所示,使用本实施例时,LDI干膜7覆盖在铜板2表面,曝光时光线直接经过滤光片4到达铜板2表面的LDI干膜7,从而实现LDI干膜7的曝光。

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