[实用新型]一种具有反C型风道的干燥箱有效

专利信息
申请号: 201420859910.0 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN204421570U 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 刘泽亮;许少行 申请(专利权)人: 天津市泰斯特仪器有限公司
主分类号: F26B21/04 分类号: F26B21/04;F26B21/10
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地址: 301617 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 风道 干燥箱
【说明书】:

技术领域

实用新型属于干燥箱技术领域,尤其涉及一种具有反C型风道的干燥箱。

背景技术

干燥箱是一种常用的仪器设备,干燥箱被广泛用于化工、电子、铸造、汽车、食品、机械等行业;干燥箱工作时需要从常温加热到100度,传统的干燥箱采用整体加热的方式,通过在箱体的四周设置加热片给箱体加温,产品放在箱体内,整个箱体升温后将热量传递至产品。这种加热方式升、降温时间较长,不仅工作效率低下,而且能耗较高。因此很多干燥箱采用热风干燥,但目前仍存在热风温度不均匀的问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种具有反C型风道的干燥箱,以解决上述背景技术中热风均匀度差的问题。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:本实用新型提供一种具有反C型风道的干燥箱,包括箱体、控制箱和脚轮,所述箱体右侧设有控制箱,所述脚轮位于箱体下方,所述控制箱的中间位置设有风机,所述风机上方依次设有开关和控制器,所述风机左侧设有进风口,所述进风口通入到箱体内部的右侧回风道中,所述箱体内部上下左右四个平面分别设有上风道、下风道、左侧风道和右侧回风道,所述右侧回风道内部设有风扇、集风板和加热区域,所述风扇位于进风口的两侧,所述加热区域位于风扇的两侧,所述集风板贯穿于右侧回风道内部呈反C型。

所述加热区域内部包括加热装置、出风口和导风板,所述加热区域内部设有三根加热装置,所述加热区域底部的一根加热装置中间位置设有出风口,所述出风口下方设有导风板。

所述箱体和控制箱为一体式结构。

所述脚轮个数设为四个。

本实用新型的有益效果

1、本实用新型采用双循环式单独加热,工作室内的热风通过风口进入反C型风道后,由风扇进行上下两侧分散,通过加热器再次单独进行加热,实现上下独立循环,以保证箱体内的均匀度,实现均匀温度达到±2.0%,相较于国际要求均匀度±2.5%,改进后的均匀度提升了±0.5%。

2、本实用新型设有集中引进风装置(集风板),可有效的把工作室内循环的热风,集中引到回风口,通过集风板进入到反C型风道中进行加热,以提高其均匀度。

3、本实用新型设有出风口和导风板,出风口主要将多余的热量及时散发出去,保证均匀度;导风板主要起定向作用,避免其偏离排风方向。

4、本实用新型设有风扇,主要起吸风和加热分流的作用,以提高其均匀度。

5、本实用新型设有脚轮,可因工作需要,随时随地移动干燥箱到不同的位置。

6、本实用新型结构简单合理,使用方便,干燥效果好,适合大规模的生产及使用。

附图说明

图1是本实用新型的结构图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述:

图中:1-箱体,2-控制箱,3-风机,4-风扇,5-集风板,6-右侧回风道,7-加热装置,8-出风口,9-导风板,10-下风道,11-左侧风道,12-上风道,13-脚轮,14-控制器,15-进风口,16-加热区域,17-开关。

实施例:

干燥箱包括箱体1、控制箱2和脚轮13,箱体1右侧设有控制箱2,脚轮13位于箱体1下方,可随时随地移动干燥箱到不同的位置,控制箱2中间位置设有风机3,风机3上方依次设有开关17和控制器14,风机3左侧设有进风口15,进风口15通入到箱体1内部的右侧回风道6中,箱体1内部上下左右四个平面分别设有上风道12、下风道10、左侧风道11和右侧回风道6,其中右侧回风道6中的热风通过上风道12和下风道10将热风输送到左侧风道11中,再通过集风板5将左侧风道11中的热风集中引到右侧回风道6中,反复循环保证了均匀度。

右侧回风道6内部设有风扇4、集风板5和加热区域16,风扇4位于进风口15的两侧,主要起吸风和加热分流的作用,加热区域16位于风扇4的两侧,集风板5贯穿于右侧回风道6内部呈反C型,可有效的把工作室内循环的热风,集中引到回风口,通过集风板进入到反C型风道中,由风扇4进行上下两侧分散,通过加热装置7再次单独进行加热,实现上下独立循环,以保证箱体内的均匀度。

加热区域16内部包括加热装置7、出风口8和导风板9,加热区域16内部设有三根加热装置7,其中底部的一根加热装置7中间位置设有出风口8,出风口8下方设有导风板9,其中出风口8主要将多余的热量及时散发出去,保证均匀度,导风板9主要起定向作用,避免热风偏离排风方向。

利用本实用新型所述的技术方案,或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本实用新型的保护范围。

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