[实用新型]用于安置基板的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于安置基板的装置，具有多个布置在水平面内的、分别被支承圆围绕的、分别用于圆盘状基板的支承座，所述装置还具有多个在相邻的支承座之间布置的支架，所述支架空间上相互分隔并且具有定心侧面，所述定心侧面分别沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座侧面的定心侧面各自构成贴靠位置，用于接触地贴靠所述基板的边缘的部段，所述定心侧面分别配属于相互不同的支架。

背景技术

这种各类型的装置构成用于CVD(化学气相沉积)反应器的基座，并从文献DE102007023970A1中已知。

未公开的文献DE102012108986A1描述了一种具有在水平面内布置的支承座的基座，其中，支承座被多个定心侧面包围，其中，每个定心侧面具有与支承圆相切的直线延伸的侧面部段。

文献DE102011055061A1描述了一种CVD反应器，其中，放置在放置面上的基板的边缘被这样支承，从而使基板中空地放置在其支承座上方。

文献US2003/0178145A1描述了一种CVD反应器，其中，基板利用其边缘放置在支撑点上。

根据本实用新型的装置尤其具有和文献EP2160759B1所述一样的可应用在CVD反应器中的基座的设计和功能。被设计为基座的装置由面状的石墨件构成，该石墨件在其表面上具有相互间隔的支架。基座的表面构成了水平的放置面，该放置面具有多个尤其均匀布置的支承座。在每个支承座上可以布置一个圆盘形的基板。已知的装置具有从放置面伸出的支架，该支架分别构成三个贴靠侧面。支架在空间上相互分离。定心侧面是贴靠侧面并且在弧线上延伸。在现有技术中，弧线位于支承座的圆形的平面轮廓线上。两个相邻支承座的由弧线所定义的支承圆在两个相邻的支架的间隔空间中接触。利用支架的六角形布置，基板可以定位在六角形布置的放置面上。

此外，由文献US2013/065403和文献WO2012/050117还已知用于容纳待涂覆的基板的载体。

实用新型内容

由此，本实用新型所要解决的技术问题在于，对所述类型的装置进行便于使用的改进。

所述技术问题根据本实用新型通过一种装置解决，所述装置具有多个布置在水平面内的、分别被支承圆围绕的、分别用于圆盘状基板的支承座，所述装置还具有多个在相邻的支承座之间布置的支架，所述支架空间上相互分隔并且具有定心侧面，所述定心侧面分别沿着位于水平面内的圆弧线延伸，其中，多个分别位于支承座侧面的定心侧面各自构成贴靠位置，用于接触地贴靠所述基板的边缘的部段，所述定心侧面分别配属于相互不同的支架，其中规定，多个分别位于支承座侧面的定心侧面沿着相互不同的圆弧线延伸，该圆弧线的半径分别大于所述支承圆的半径，并且所述定心侧面仅在相应的贴靠位置上与所述支承圆相切。

所述技术问题根据本实用新型还通过一种装置解决，所述装置具有布置在水平面内的、分别用于圆盘形基板的支承座，其中，至少一个位于所述装置的边缘附近的支承座这样设计并且尤其具有凹穴，从而在位于所述支承座上的所述基板的下方构成空腔，所述空腔具有边缘区域，所述边缘区域的竖直深度朝着支承圆的圆心的方向变大，其特征在于，所述空腔的边缘区域具有不同于旋转对称结构的延伸走向，其中，在相对于所述支承座的圆心的相等径向距离处，在朝向所述装置边缘的边缘区域中的竖直高度小于在远离所述装置边缘的边缘区域中的竖直高度。

根据本实用新型，弧线(定心侧面沿该弧线延伸)的走向与支承圆的走向(支承圆的走向相当于基板的平面轮廓)不同。