[实用新型]一种断路器用的脱扣装置有效

专利信息
申请号: 201420844017.0 申请日: 2014-12-25
公开(公告)号: CN204271012U 公开(公告)日: 2015-04-15
发明(设计)人: 陈会林;陈琳;刘洪武 申请(专利权)人: 常熟开关制造有限公司(原常熟开关厂)
主分类号: H01H71/24 分类号: H01H71/24
代理公司: 常熟市常新专利商标事务所 32113 代理人: 何艳
地址: 215500 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 断路 器用 装置
【说明书】:

技术领域

 本实用新型属于低压电器技术领域,具体涉及一种断路器用的脱扣装置。

背景技术

断路器用脱扣装置,一类为固定在断路器内部,如热脱扣器,一类为电磁铁,多以附件形式存在,按实际需要进行添加,如分励脱扣器、欠压脱扣器以及作为电子脱扣器执行部件的磁通变换器。

随着塑壳断路器的小型化发展,分励脱扣器、欠压脱扣器和磁通变换器的线圈体积逐渐减小,电磁能量受限,难于满足直接打击牵引杆使断路器脱扣的能量需求或者锁扣该能量。所以,已有技术中,通常采用二级放大机构提供断路器脱扣能量,电磁能量只用于解扣、释放二级放大机构的能量。

分励、欠压脱扣器同为断路器脱扣装置,与断路器之间的装配关系具有高度的相似性,在实际设计中多采用归一化设计,即使得两种脱扣器整体结构类似,并尽可能采用通用零件,从而降低成本。如中国实用新型专利授权公告号CN201449955U所公开的“一种断路器用欠压脱扣器”和中国实用新型专利授权公告号CN201417726Y所涉及的一种“断路器用分励脱扣器”,上述两种脱扣器,通过二级放大机构中动作逻辑相反的锁扣方式(动铁芯吸合时解扣,动铁芯释放时解扣),以适应两者不同的电磁机构中工作逻辑,即分励脱扣器的线圈得电──动铁芯被吸合──断路器脱扣,欠压脱扣器的线圈失电──动铁芯被释放──断路器脱扣,实现两者二级放大机构大体相同,可共用部分零件。

电子脱扣器的执行元件磁通变换器的工作方式,公知的是:当线圈无电流时,永磁体对动铁芯的磁力在克服电磁机构内部弹簧的作用力后吸合动铁芯;当线圈通电时,永磁体在动铁芯中的磁通部分或全部被抵消,动铁芯在内部弹簧作用下释放,顶撞锁扣件,释放储能弹簧能量,最终使断路器脱扣。也就是说,磁通变换器整体的工作逻辑关系是线圈得电──动铁芯被释放──断路器脱扣。可见,磁通变换器电磁机构工作的电气特性与分励脱扣器相同(脱扣器线圈得电,断路器被脱扣),二级放大机构工作的逻辑关系与欠压脱扣器相同(动铁芯被释放,断路器被脱扣),即在理论上磁通变换器可实现分励脱扣器的功能,并且实现与欠压脱扣器完全通用的二级放大机构,为进一步降低断路器的同类脱扣装置的生产成本提供可能性。

磁通变换器电磁机构的传统设计中,常采用圆桶型结构的轭铁,有效提高含有永磁体的电磁机构的抗磁干扰能力。为使线圈中电流产生的磁场对永磁体的消磁作用降低以及对动铁芯受到的永磁体吸力的调节作用增强,公知的方式是设置分磁片。在圆桶型轭铁内的圆饼形分磁片,受磁通变换器线圈骨架的延伸结构定位,保持与轭铁壁的间隙。

与欠压脱扣器中常见的以钢板搭建的六面体轭铁相比,圆桶型轭铁的生产成本较高,桶型轭铁与欠压脱扣器的轭铁结构差异大,这也不利于为降低生产成本而增加抗磁干扰能力;相对于分励和欠压脱扣器在电磁机构方面的差异程度,磁通变换器的圆桶变换器和欠压脱扣器的通用零件数很难实现。

对此,具有可行性的一种解决方法是,磁通变换器的圆桶型轭铁更换为六面体型,既降低磁通变换器的成本,又增加磁通变换器与欠压脱扣器的通用零件数。但是,由此将引起的磁通变换器中电磁机构抗磁干扰能力的下降,适用于圆桶型结构轭铁的分磁片定位方式也不适合六面体型的轭铁中,这就需要进一步优化脱扣装置的结构以满足要求。

发明内容

本实用新型的目的是要提供一种断路器用的脱扣装置, 其使得断路器的分励脱扣器和磁通变换器整体通用,并与欠压脱扣器通用二级放大机构;同时零件数目减少,结构得到简化,整体尺寸减小,适合断路器小型化的需求;且具有较好的抗磁干扰能力。

本实用新型的目的是这样来达到的,一种断路器用的脱扣装置, 包括电磁机构和基座,基座由轭铁盖、轭铁构成壳架,所述的电磁机构置于壳架内,所述的电磁机构包括动铁芯、线圈、线圈骨架、塑料底座、分磁片、永磁体和轭铁套,所述的轭铁套置于轭铁盖的中央,所述的线圈缠绕在线圈骨架上,所述的线圈骨架的中空型腔的一端套设于轭铁套上、另一端的下方设置有分磁片,所述的动铁芯置于所述的线圈骨架的中空型腔中,其上端插入轭铁套内,所述的永磁体设置在分磁片的下方,所述的塑料底座具有第一凹腔和第二凹腔,分别用于放置且定位永磁体和分磁片,此三者的组装体位于线圈骨架与轭铁的底板之间。

在本实用新型的一个具体的实施例中,所述第二凹腔与分磁片匹配,并且该第二凹腔的深度与分磁片厚度一致,所述第二凹腔的边缘围挡保证分磁片与轭铁的侧壁之间的间隙。

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