[实用新型]一种掩膜板

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及了一种掩膜板。

背景技术

由于有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode，OLED）同时具备有自发光、不需要背光源、对比度高、厚度薄、视角光、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广等优异特性。被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。

OLED生产过程中最重要的一个环节是将有机材料蒸镀到基板上，形成发光单元。目前OLED行业发光单元制作方法主要是通过利用真空热蒸镀的方法，将位于真空腔内的有机分子通过加热的方式，使得这些分子以膜层的形式沉积在温度较低的基板上。这一过程与OLED发光显示单元精度相适应的高精度掩模板密切相关。

在有机材料的蒸镀过程中，掩模板是固定在基板下方的。为了使得有机材料通过掩模板的开口精确地镀到基板上，必须要求基板与掩模板精确对位。而掩模板在制作开口时常常会形成毛刺，在对位过程中，这种毛刺就会造成对玻璃基板的划伤。同时在对位过程中因为异物夹杂在玻璃和掩模板之间会进一步加重基板的划伤和掩模板的磨损。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种掩膜板，其掩膜面形成一保护膜，该保护膜可以覆盖制作掩模板开口时形成的毛刺，则减少基板在对位过程中因为毛刺对基板造成的划伤；同时该掩膜板还具有耐磨性和减摩性，耐磨的特性可以用来保护掩模板在反复对位的过程中因为异物导致的磨损，提高膜层的使用寿命；而减摩的特性主要保证了所镀膜层不会对基板造成划伤和磨损。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种掩膜板，包括掩膜面，其特征在于，所述掩膜面上形成有一保护膜。

优选地，所述保护膜的厚度为10~30μm。

优选地，所述保护膜为铬碳化合物。

优选地，所述铬碳化合物为Cr₂₃C₆、Cr₇C₃和Cr₃C₂中的至少一种。

优选地，所述掩膜面与保护膜之间还形成有一过渡膜。

优选地，所述过渡膜的厚度为3~8μm。

优选地，所述过渡膜为铬层或氮化铬层。

优选地，所述保护膜采用磁控溅射制得。

更优选地，所述过渡膜采用磁控溅射制得。

本实用新型具有如下有益效果：

（1）              所述掩模板上的掩膜面形成一保护膜，该保护膜可以覆盖制作掩模板开口时形成的毛刺，则减少基板在对位过程中因为毛刺对基板造成的划伤；

（2）              所述掩模板还具有耐磨和减摩的特性，通过保护膜的耐磨特性来保护掩模板在对位过程中造成的磨损，而其减摩的特性用来减少在对位过程中对基板的划伤；

（3）              使用所述掩膜板，可减少了基板的划伤，从而能大幅度的提高蒸镀过程中的良品率，带来很明显的经济效益；在一定程度上也保护了掩模板，能大幅度的节约成本。

附图说明

图1为本实用新型的一实施例的结构示意图；

图2为图1中A处的放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的机构和原理，为了更好的说明本实用新型，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。相同或相似的标号对应相同或相似的部件。

请参照图1和图2，示出了本实施例提供的一种掩膜板1的结构示意图。所述掩膜板1通过在其上留有预先设计好的开口和图案，使得有机材料能够通过其蒸发到基板上。在制作掩模板开口时往往形成很多毛刺14，此毛刺14是造成基板被划伤的根本原因。所述掩膜板1包括一掩膜基底11，所述掩膜基底11具有掩膜面12及与所述掩膜面12相对的非掩膜面13，所述掩膜面12朝向基板且与基板进行对位接触。