[实用新型]一种柱状旋转磁控溅射靶

权利要求书

1.一种柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：包括柱状靶材(4)、用于安装磁钢组件(5)的磁钢安装芯轴(6)；磁钢安装芯轴(6)与柱状靶材(4)采用同心布置；柱状靶材(4)的一端与传动轴(8)连接，另外一端安装有端部轴头(1)；所述端部轴头(1)上设置有与柱状靶材(4)和磁钢安装芯轴(6)配合的第一凹槽(1.1)和第二凹槽(1.2)；所述磁钢安装芯轴(6)一端套接有轴承套(3)；所述轴承套(3)安装在第二凹槽(1.2)内；所述磁钢安装芯轴(6)套接有过水轴套(7)，且过水轴套(7)支撑起传动轴(8)。

2.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述传动轴(8)的外侧套有磁流体密封件(10)。

3.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述磁钢安装芯轴(6)为中空管，磁钢安装芯轴(6)上靠近端部轴头(1)一端设有若干孔(12)。

4.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述端部轴头(1)通过第一法兰(2)安装在柱状靶材(4)上。

5.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述柱状靶材(4)通过第二法兰(11)与传动轴(8)连接。

6.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述过水轴套(7)上开有多个过水孔。

7.根据权利要求6所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述过水轴套(7)上开有代替过水孔的多个过水槽。

8.根据权利要求1所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述轴承套(3)采用聚四氟乙烯材料制造。

9.根据权利要求1、6或7任一所述的柱状旋转磁控溅射靶，其特征在于：所述的过水轴套(7)采用聚四氟乙烯材料制造。